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CPC-G/Gplus 全新CIF 實驗室型等離子清洗機

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

一、全新CIF 實驗室型等離子清洗機 產(chǎn)品介紹

CIF推出全新一代實驗室型等離子體清洗設(shè)備,并非傳統(tǒng)等離子體清洗設(shè)備設(shè)計理念,可中試生產(chǎn)、模擬生產(chǎn)條件,幾乎具備等離子體清洗設(shè)備所有的功能。采用頂置真空倉,上開蓋下壓式鉸鏈開關(guān)方式,上置式360度自由取放樣品托盤設(shè)計,具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積,使用成本低,性價比高,處理快速高效,特別適合于大學(xué),科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產(chǎn)。

二、全新CIF 實驗室型等離子清洗機 產(chǎn)品特點

1.7寸彩色觸摸屏互動操作界面,圖形化用戶操作界面顯示,自動監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài),20個配方程序,可存儲、輸出、追溯工藝數(shù)據(jù),機器運行、停止提示。

2. PLC工控機控制整個清洗過程,手動、自動兩種工作模式。

3. 石英真空倉,真空管路系統(tǒng)采用316不銹鋼材質(zhì),耐腐蝕無污染。

4. 采用質(zhì)量流量計實現(xiàn)對氣體輸入精準(zhǔn)控制,改變傳統(tǒng)浮子流量計控制氣體流量不準(zhǔn)確問題。

5. HEPA高效過濾,氣體返填吹掃,防止二次污染。

6. 60度傾角操作界面設(shè)計,符合人體功能學(xué),操作方便,界面友好。

7. 頂置真空倉,上開蓋設(shè)計,下壓式鉸鏈開關(guān)方式,開關(guān)蓋方便。

8. 采用花灑式多孔進氣方式,改變傳統(tǒng)等離子清洗機單孔進氣不均勻問題。

9. 上置式360度自由水平取放樣品托盤設(shè)計,符合人體功能學(xué),操作更方便。

10. 有效清洗面積大,可清洗最大直徑8寸硅片。

11. 可處理不同幾何形狀、表面不同粗糙程度的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等樣品,進行清洗和改性。

12. 安全保護,倉門打開,自動關(guān)閉電源。

三、技術(shù)參數(shù)

型號

CPC-G

CPC-G plus

CPC-12

CPC-12plus

艙體尺寸

H120xΦ270mm  

H120xΦ270mm

H120xΦ370mm

H120xΦ370mm

艙體容積

6.8L

6.8L

12.8L

12.8L

射頻電源

40KHz

13.56MHz

40KHz

13.56MHz

匹配器

自動匹配

自動匹配

自動匹配

自動匹配

激發(fā)方式

電容式

電容式

電容式

電容式

射頻功率

10-300W可調(diào)

10-150W可調(diào)

10-600W可調(diào)

10-300W可調(diào)

最大處理尺寸

Φ270mm 圓盤

Φ370mm圓盤

產(chǎn)品尺寸

L525xW425xH345mm

L618xW520xH465mm

包裝尺寸

L645xW540xH560mm

L750xW640xH570mm

氣體控制

質(zhì)量流量計(MFC)(標(biāo)配單路,可選雙路)

時間設(shè)定

1-99分59秒

真空泵

抽速4-8m3/h

氣體穩(wěn)定時間

1分鐘

真空度

100pa以內(nèi)

電 源

AC220V 50-60Hz









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