ME-Mapping光譜橢偏儀
- 公司名稱 武漢頤光科技有限公司
- 品牌 頤光科技
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地 武漢東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)金融港四路10號(hào)6號(hào)樓（自貿(mào)區(qū)武漢片區(qū)）
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/7/4 13:44:39
- 訪問(wèn)次數(shù) 1981
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| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,航天,電氣,綜合 |
一、概述
ME-Mapping 光譜橢偏儀是一款可定制化Mapping繪制化測(cè)量光譜橢偏儀，配置全自動(dòng)Mapping測(cè)量模塊，通過(guò)橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測(cè)量，快速實(shí)現(xiàn)薄膜全基片膜厚以及光學(xué)參數(shù)自定義繪制化測(cè)量表征和分析。
■ 全基片橢偏繪制化測(cè)量解決方案；
■ 支持產(chǎn)品設(shè)計(jì)以及功能模塊定制化，一鍵繪制測(cè)量；
■ 配置Mapping模塊，全基片自定義多點(diǎn)定位測(cè)量能力；
■ 豐富的數(shù)據(jù)庫(kù)和幾何結(jié)構(gòu)模型庫(kù)，保證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力。
二、產(chǎn)品特點(diǎn)
■ 采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)；
■ 高精度旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器調(diào)制、PCRSA配置，實(shí)現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集；
■ 具備全基片自定義多點(diǎn)自動(dòng)定位測(cè)量能力，提供全面膜厚檢測(cè)分析報(bào)告；
■ 數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫(kù)、多種算法模型庫(kù)，涵蓋了目前絕大部分的光電材料。
三、產(chǎn)品應(yīng)用
ME-Mapping廣泛應(yīng)用OLED，LED，光伏，集成電路等工業(yè)應(yīng)用中,實(shí)現(xiàn)大尺寸全基片膜厚、光學(xué)常數(shù)以及膜厚分布快速測(cè)量與表征。
可選配件
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| 真空泵 | 透射吸附組件 |
技術(shù)參數(shù)
采購(gòu)中心
化工儀器網(wǎng)