| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 環(huán)保,化工,電子,電氣,綜合 |
|---|---|---|---|
| 品牌 | 甲岸 |
甲岸小型等離子去膠機屬于真空等離子清洗機系列
隨著科學技術的進步，微波等離子去膠機在現(xiàn)代工業(yè)中發(fā)展迅速。原因也很簡單。選擇等離子去膠機是因為操作簡單，工作效率高，成本低，環(huán)保，去膠后表面光滑。以下是等離子去膠機的使用方法:
1、調整適當的頻率：
頻率越高，氧越容易電離成等離子體。如果頻率過高，電子振幅比平均自由度短，則降低電子與氣體分子碰撞的概率，降低電離率。通常，微波等離子體去膠機的常用頻率為13.56mHz和2.45gHZ。
2、調整適當功率：
至于一定量的氣體，功率大，等離子體中的活性粒子密度高，去膠速度快；但當功率增加到一定值時，能消耗的活性離子就會飽滿，無論功率有多大，去膠速度都不會顯著增加。由于功率大，基板溫度高，微波等離子體去膠機的功率應根據技術要求進行調整。甲岸小型等離子去膠機
3、調整合適的真空度：
適當的真空度可以增加電子運動的平均自由度，因此從電場獲得的能量很大，有利于電離。當氧氣流量必須準時時，真空度越高，氧氣的相對份額就越大，活性粒子的濃度也就越大。但如果真空度過高，活性粒子的濃度就會降低。
4、氧氣流量調整：
氧氣流量大，活性粒子密度大，去膠速率加快；但如果流量過大，離子復合概率會增加，電子運動的平均自由度會縮短，電離強度會降低。如果反應室壓力不變，流量增加，也會增加提取的氣體量，同時也會增加尚未參與反應的活性粒子提取量，因此流量的增加對去膠速率的影響不大。
甲岸小型真空等離子清洗機
Plasma等離子清洗機一般包括真空系統(tǒng),電源系統(tǒng),供氣系統(tǒng)和清洗室,清洗室內安裝有電極架,可以將射頻電極,地極按照交替的方式組合放置,以適應不同的清洗場合。
清洗時首先運行真空泵對真空室進行抽氣,當真空室達到一定真空度后,由充氣閥充入一定氣壓工藝氣體,調節(jié)氣體流量,使得真空室內的真空度保持在30Pa左右,然后給放電電極通入射頻電源,當調節(jié)電源的輸出功率到合適時,透過玻璃觀察窗，可以觀察到真空腔體中有輝光現(xiàn)象產生,證明產生了等離子體。
等離子清洗機的機理:
主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子;產物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。
甲岸小型真空等離子清洗機
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