Mini Desktop ALD 原子層沉積系統(tǒng)廠家
- 公司名稱 廈門韞茂科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 Mini Desktop ALD
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2024/8/22 13:16:36
- 訪問次數(shù) 1057
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價格區(qū)間 | 50萬-100萬 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
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一、核心參數(shù):
價格區(qū)間:10萬-50萬
產(chǎn)地類別:國產(chǎn)原子層沉積系統(tǒng)(ALD)
襯底尺寸:4寸
工藝溫度:RT-300℃
前驅(qū)體數(shù):4組液態(tài)或固態(tài)前驅(qū)體
重量:40KG
尺寸(WxHxD):500*400*400mm
均勻性:99.9%
二、原子層沉積(Atomiclayerdeposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應(yīng)腔體內(nèi)并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)而形成沉積膜的一種技術(shù),具有自限性和自飽和。原子層沉積技術(shù)主要應(yīng)用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無針孔、高保形的納米薄膜。
三、原子層沉積系統(tǒng)廠家產(chǎn)品描述:
廈門韞茂科技公司研發(fā)的超小型桌式ALD原子層沉積設(shè)備是*材料研究的有力設(shè)備之一,它可以在4寸晶元(向下兼容)和微納米粉體上實現(xiàn)均勻可控的原子層沉積,具有廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域,設(shè)各配有獨立控制的300℃完整加熱反應(yīng)腔室系統(tǒng),保證工藝溫度均勻,該系統(tǒng)具有粉末樣品桶、晶元載盤,全自動溫控制、ALD前驅(qū)體源鋼瓶、自動溫度控制閥、工業(yè)級安全控制,以及現(xiàn)場RGA、QCM、臭氧發(fā)生器、手套箱等設(shè)計選項,是*能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應(yīng)用的最佳研發(fā)工具
四、廈門韞茂科技有限公司為您提供原子層沉積系統(tǒng)廠家的參數(shù)、價格、型號、原理等信息,產(chǎn)地為福建、品牌為韞茂,型號為MiniDesktopALD,價格為50萬RMB,更多相關(guān)信息可咨詢,公司客服電話7*24小時為您服務(wù)。
五、售后服務(wù):
保修期:1年
是否可延長保修期:否
現(xiàn)場技術(shù)咨詢:有
免費培訓(xùn):1.設(shè)備出廠前,提供至少2人一周的設(shè)備原廠培訓(xùn)。2.設(shè)備在現(xiàn)場完成安裝調(diào)試
免費儀器保養(yǎng):有需要可安排
保內(nèi)維修承諾:保修期內(nèi)(除天災(zāi)和人為損害外)部件、元件費用、出差費用均由我司承擔(dān)
報修承諾:質(zhì)保期內(nèi)出現(xiàn)故障時我司將及時響應(yīng),并在8小時內(nèi)派技術(shù)人員到現(xiàn)場解決故障
六、技術(shù)參數(shù):