SENTECH 原子層沉積設(shè)備

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
品牌 其他品牌
型號 SENTECH
產(chǎn)地
廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
更新時間 2024/7/10 7:36:02
訪問次數(shù) 959

產(chǎn)品標(biāo)簽

原子層沉積設(shè)備原子層沉積設(shè)備廠家

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公司介紹 主營產(chǎn)品

北京瑞科中儀科技有限公司專注半導(dǎo)體材料研究分析設(shè)備的研發(fā)和應(yīng)用。專業(yè)的團(tuán)隊，專精的服務(wù)，提供理想的解決方案。

我們長期專注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷和代理，為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的分析解決方案。以專業(yè)技能為導(dǎo)向，用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業(yè)的技術(shù)工程師和科研工作者進(jìn)行現(xiàn)場演示和技術(shù)交流，打消顧慮，彼此協(xié)作，為我國的科研領(lǐng)域譜寫新篇章。

北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備，其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機(jī)、等離子清洗機(jī)、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實驗室設(shè)備儀器。

客戶至上的服務(wù)理念，以人為本的企業(yè)文化，我們始終為用戶提供專業(yè)的服務(wù)！

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展開

半導(dǎo)體材料分析,材料刻蝕

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價格區(qū)間	面議	應(yīng)用領(lǐng)域	環(huán)保,化工,電子

SENTECH ALD原子層沉積設(shè)備的優(yōu)勢

用于敏感襯底的PEALD

真遠(yuǎn)程等離子體源能夠在低溫<100°C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層，在樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體，而不受紫外線輻射或離子轟擊。

用于工藝研發(fā)和改善的實時監(jiān)測

ALD實時監(jiān)視儀RTM的原位診斷實現(xiàn)了單一ALD循環(huán)的超高分辨率。優(yōu)點是確認(rèn)ALD范圍，減少處理時間和總生產(chǎn)成本。采用橢偏光譜、QCM和QMS進(jìn)行原位診斷，也是我們的優(yōu)點。

簡易的腔體清洗

定期反應(yīng)腔體清洗對于穩(wěn)定和可重復(fù)的原子層沉積工藝是的。借助于用于清洗原子層沉積系統(tǒng)的升降裝置，可以容易地打開反應(yīng)腔體。

集成手套箱

SENTECH原子層沉積設(shè)備各種供應(yīng)商的手套箱兼容。

多腔集成

可作為SENTECH多腔系統(tǒng)的一個模塊。我們的可以與SENTECH PECVD和蝕刻設(shè)備結(jié)合用于工業(yè)應(yīng)用。可選的多腔系統(tǒng)也具備片盒到片盒裝片的特點。

SENTECH實現(xiàn)了熱ALD和等離子體增強(qiáng)ALD操作。ALD設(shè)備可以配置為用于氧化物、氮化物和金屬沉積。三維結(jié)構(gòu)具有出色的均勻性和保行性。利用ALD、PECVD和ICPECVD，SENTECH提供等離子體沉積技術(shù)，用于從納米尺度沉積到數(shù)微米的薄膜沉積。

SENTECH ALD設(shè)備實現(xiàn)了熱ALD和等離子體增強(qiáng)ALD膜交替沉積多層結(jié)構(gòu)。熱ALD和等離子體增強(qiáng)ALD可在同一個反應(yīng)腔體中用快門來切換。

SENTECH提供了前沿的快速原位監(jiān)測技術(shù)，實時監(jiān)測和廣泛范圍的光譜橢偏儀可逐層監(jiān)測薄膜生長。