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PECVD-500A-D 智能型PECVD系統(tǒng)(含壓力控制系統(tǒng))

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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      安徽貝意克設(shè)備技術(shù)有限公司成立于2012年,基地位于安徽合肥,是一家集新材料設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與技術(shù)服務(wù)于一體的高科技企業(yè)。

      公司重視技術(shù)攻關(guān)和產(chǎn)品研發(fā),建有超卓的產(chǎn)品研發(fā)中心,擁有一支由多名博士碩士組成的專業(yè)研發(fā)隊伍,累計獲得patent200余項。并通過產(chǎn)學(xué)研合作,與北京大學(xué)南開大學(xué)等多所院校建立聯(lián)合實驗室及研究生聯(lián)合培養(yǎng)基地
      公司專注于新材料裝備工藝開發(fā)及裝備制造,產(chǎn)品門類涵蓋了OLED材料提純專用設(shè)備系列、碳材料制備設(shè)備系列、半導(dǎo)體專用設(shè)備系列及金屬納米顆粒設(shè)備系列四大類共十余個子類,與眾多材料廠商、科研院校等保持長期合作關(guān)系,市場營銷網(wǎng)絡(luò)遍布全球各地。
      連年來,公司相繼被認(rèn)定為“高新技術(shù)企業(yè)”“專精特新企業(yè)““科技小巨人培育企業(yè)”“石墨烯生長設(shè)備工程技術(shù)研究中心”“瞪羚企業(yè)”“雛鷹企業(yè)”,并接連獲得“中國隱形獨角獸500強”“科技創(chuàng)新獎”“創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)獎”等多項榮譽。

 

 

 

 

 

 

 

 

高溫管式爐,箱式爐,CVD系統(tǒng),PECVD系統(tǒng), 等離子清洗機,陶瓷材料燒結(jié)設(shè)備

 我公司研制的滑軌式PECVD系統(tǒng)能使整個實驗腔體都處于輝光產(chǎn)生區(qū),輝光均勻等效,這種技術(shù)很好的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài),這樣離子化的范圍和強度是傳統(tǒng)PECVD的百倍,并解決了物料不均勻堆積現(xiàn)象。

 與傳統(tǒng)CVD系統(tǒng)比較,生長溫度更低。

 使用滑軌爐實現(xiàn)快速升溫和降溫。

 設(shè)備*的技術(shù)使得整管輝光均勻等效,均勻生長。

主要特點:

1.薄膜沉積速率高:射頻輝光技術(shù),大大的提高了薄膜的沉積速率,沉積速率可達10?/S;
2. 大面積均勻性高:采用了*的多點射頻饋入技術(shù),特殊氣路分布和加熱技術(shù)等,使得薄膜均勻性指標(biāo)達到8%;
3. 一致性高:用半導(dǎo)體行業(yè)的*設(shè)計理念,使得一次沉積的各基片之間偏差低于2%;
4. 工藝穩(wěn)定性高:高度穩(wěn)定的設(shè)備保證了工藝的連續(xù)和穩(wěn)定;

技術(shù)參數(shù):

1、單溫區(qū)加熱系統(tǒng)

最高溫度

1200

使用溫度

1100

爐膛有效尺寸

Φ60*1650mm

爐膛材料

氧化鋁、高溫纖維制品

熱電偶類型

K

控溫精度

1

控溫方式

30段可編程控溫,PID參數(shù)自整定,

?操作界面為10”工控電腦,內(nèi)置PLC控制程序,

?可將溫控系統(tǒng)、滑軌爐滑動(時間和距離)設(shè)定為程序控制。

加熱長度

440mm

恒溫長度

200mm

加熱原件

電阻絲

供電電源

220V

額定功率

3KW


2PE射頻電源

CVD系統(tǒng)可配備PE射頻電源,將CVD系統(tǒng)升級為PECVD。當(dāng)參與反應(yīng)的氣氛進入爐管在射頻電源的作用下產(chǎn)生離子體,可使反應(yīng)更加充分。同時等離子體起增強的作用,從而很大程度上優(yōu)化實驗的工藝條件。

信號頻率

13.56 MHz±0.005%

功率輸出范圍

500W

射頻輸出接口

50 Ω, N-type, female

功率穩(wěn)定度

±0.1%

諧波分量

-50dbc

供電電壓

單相交流(187V-253V 頻率50/60HZ

整機效率

>=70%

功率因素

>=90%

冷卻方式

強制風(fēng)冷


3、五路質(zhì)子流量控制系統(tǒng)

供氣系統(tǒng)是一種可控制4種氣體按不同流量進行混合配比,也可根據(jù)實驗需求加裝洗氣裝置,質(zhì)量流量計安裝于密封的可移動機柜內(nèi),由超潔雙拋不銹鋼管與精密雙卡套接頭連接組成觸摸屏控制。

連接頭類型

雙卡套不銹鋼接頭

標(biāo)準(zhǔn)量程

氬氣:1000sccm

氫氣:300sccm

甲烷:100sccm

氮氣:500sccm

氧氣:100sccm

準(zhǔn)確度

±1.5%

線性

±0.51.5%

重復(fù)精度

±0.2%

響應(yīng)時間

氣特性:14 Sec,電特性:10 Sec

工作壓差范圍

0.10.5 MPa

最大壓力

3MPa

接口

Φ6或者1/4''可選

顯示

4位數(shù)字顯示

工作環(huán)境溫度

5~45高純氣體

壓力真空表

0.10.15 MPa, 0.01 MPa/


4真空機組

真空機組,內(nèi)部安裝雙極旋片機械泵1臺,電容真空計1套,并含有配套使用的波紋管,手動擋板閥,卡箍等連接部件。設(shè)備冷態(tài)極限真空可達0.5Pa。

工作電電壓

220V

功率

1

抽氣速率

16m3/h

極限真空

0.5Pa

進氣口口徑

KF25

排氣口口徑

KF25

連接方式

采用波紋管,手動擋板閥與波紋管相連

電容真空計

ZDM-I(

5-5000pa

不需因測量氣體種類不同而需要系數(shù)轉(zhuǎn)換。具有較高的精確度和重復(fù)性,響應(yīng)時間較短


5、壓力控制系統(tǒng):

壓力控制系統(tǒng)主要部件蝶閥、壓力控制器、電容真空計組成。

壓力控制系統(tǒng)的作用:根據(jù)實驗要求,在出氣端和泵之間增加蝶閥(調(diào)節(jié)閥)和真空計,真空計可檢測管內(nèi)壓力,通過 PLC 調(diào)節(jié)蝶閥(調(diào)節(jié)閥)開啟的大小,以達到控制管內(nèi)壓力不變。

壓力可范圍:100~100000Pa

控制精度:測量值±5%






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