GVC-2000T 高真空磁控離子濺射儀
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 北京格微儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) GVC-2000T
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/6/3 14:10:33
- 訪問(wèn)次數(shù) 3126
產(chǎn)品標(biāo)簽
聯(lián)系方式：范斌18611817232 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說(shuō)明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息，謝謝!
| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,能源,電子,電氣,綜合 | 濺射電壓 | 300-600V,根據(jù)選擇靶材、控制參數(shù)不同而變化 |
| 濺射電流 | 0-200mA連續(xù)可調(diào),步長(zhǎng)10mA | 濺射時(shí)間 | 0-9999s,?連續(xù)可調(diào)步長(zhǎng)1s |
| 樣品臺(tái)直徑 | ≥90mm | 真空室 | 高硅硼玻璃，規(guī)格尺寸約φ170×130mm |
沒(méi)有熱損傷，效率更高，顆粒度更細(xì)，更適合高分辨電鏡。
高真空磁控離子濺射儀應(yīng)用領(lǐng)域
1、高分辨掃描電鏡樣品制備（實(shí)際放大倍數(shù)≥100K）。
2、電極制備-可制備各種金屬電極、ITO電極。
設(shè)備配置與技術(shù)參數(shù)
| 名稱&型號(hào) | 高真空磁控離子濺射儀GVC-2000T |
| 真空系統(tǒng) | 渦輪分子泵（進(jìn)口 ）：德國(guó)萊寶90i （單磁懸浮分子泵，抽速為90L/s） 旋片式真空泵：浙江飛越VRD-4 （抽速為 1 .1L/s） |
| 真空測(cè)量 | 全量程復(fù)合真空規(guī)（進(jìn)口）：丹麥Sens4 VPM-5 量程范圍:1.0E5Pa-1E-4Pa |
| 系統(tǒng)極限真空 | ≤5E-3Pa |
| 濺射電源 | 磁控濺射電源,最大功率150W |
| 可用靶材 | 金、鉑金、銀、銅、鋁、鈦、鎳、鐵、鉬、鎢等金屬靶材 |
| 濺射電壓 | 300-600V,根據(jù)選擇靶材、控制參數(shù)不同而變化 |
| 濺射電流 | 0-200mA連續(xù)可調(diào),步長(zhǎng)10mA |
| 濺射時(shí)間 | 0-9999s, 連續(xù)可調(diào)步長(zhǎng)1s |
| 操作界面 | 7英寸TFT彩色液晶觸摸屏,分辨率800×480 |
| 抽氣節(jié)拍 | ＜15分鐘 |
| 控制方式 | 只需設(shè)定濺射電流和時(shí)間即可，全自動(dòng)控制 具備預(yù)濺射擋板（預(yù)濺射時(shí)間可設(shè)定),全自動(dòng)控制 |
| 保護(hù)功能 | 軟硬件互鎖、防止誤操作，具備電流、真空保護(hù)等 |
| 樣品臺(tái)直徑 | ≥90mm |
| 真空室 | 高硅硼玻璃，規(guī)格尺寸約φ170×130mm |
| 電源供電 | 220V 50Hz 最大功率800W |
| 尺寸&重量 | 重量 420（長(zhǎng)) ×330（深) ×450mm（高）、 25 kg （凈重) |
| 冷卻方式 | 風(fēng)冷 |
| 選配 | 樣品臺(tái)選擇、膜厚控制、溫度監(jiān)測(cè)等 |
鍍膜樣品示例：
采購(gòu)中心
化工儀器網(wǎng)