光固化3D打印
- 公司名稱 深圳摩方新材科技有限公司
- 品牌 摩方精密
- 型號
- 產(chǎn)地 廣東深圳
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2024/9/18 18:20:04
- 訪問次數(shù) 2004
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| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,食品,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥 | 光學(xué)精度 | 2μm |
|---|---|---|---|
| 打印材料 | 光敏樹脂 | 打印層厚 | 5-20μm |
| 最大打印尺寸 | 50mm(L)×50mm(W)×10mm(H) | 光源 | UV?LED(405nm) |
一、光固化3D打印產(chǎn)品介紹
設(shè)備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術(shù)，該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng)，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢，被認(rèn)為是目前最有前景的微納加工技術(shù)之一。
二、光固化3D打印基本參數(shù)
光源：UV-LED(405nm)
打印材料：硬性樹脂、耐高溫樹脂、韌性樹脂、生物兼容性樹脂等
光學(xué)精度：2μm
打印層厚：5-20μm
打印尺寸：
①模式一：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（單投影模式）
②模式二：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）
③模式三：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重復(fù)陣列模式）
文件格式：STL
系統(tǒng)外形尺寸：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)
重量：550kg
電氣要求：200-240V AC,50/60HZ,3kW
三、應(yīng)用領(lǐng)域
nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統(tǒng)可廣泛應(yīng)用于力學(xué)超材料、生物醫(yī)療、微機械結(jié)構(gòu)、微流控、三維復(fù)雜仿生結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域。
作為微納3D打印行業(yè)，在三維復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納加工領(lǐng)域，BMF Material團隊擁有超過二十年的科研經(jīng)驗，針對客戶在項目研究中可能出現(xiàn)的工藝和材料難題，我們將持續(xù)提供簡易高效的技術(shù)支持方案。
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