4D智能集成等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-IP-XXHD

名稱（Name）

4D智能集成等離子處理系統(tǒng)

型號（Model）

CRF-APO-IP-XXHD

電源（Power supply）

220V/AC，50/60Hz

功率（Power）

800W*4set/25KHz

功率因素（Power factor）

0.98

等離子噴槍數(shù)量（Number of plasma   guns）

4（Max）

處理高度（Processing   height）

5-15mm

內(nèi)部控制模式（Internal control   mode）

數(shù)字控制（Digital control）

外部控制模式（External control   mode）

RS485/RS232、模擬通訊口、啟停IO（RS485/RS232、Analog communication port、ON/OFF I/O）

工作氣體（Gas）

Compressed Air（0.4mpa）/N2（0.2mpa）

產(chǎn)品概述： 單個(gè)處理系統(tǒng)可攜帶2-4個(gè)各種類型等離子噴槍，全網(wǎng)絡(luò)匹配、智能集成一體化；

具有更節(jié)省空間、更多種類型的應(yīng)用；

具有RS485/RS232、啟停I/O控制模式、方便快捷、降低成本；

使用于不同場合，滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境。

產(chǎn)品特點(diǎn)：可In-Line式安裝于客戶設(shè)備產(chǎn)線中，減少客戶投入成本；使用壽命長，保養(yǎng)維修成本低。

應(yīng)用范圍：主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機(jī)殼印刷、涂覆、點(diǎn)膠等前處理，手機(jī)屏幕的表面處理；工業(yè)的航空航天電連接器表面清洗；通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。

等離子清洗是利用什么讓電子離子紫外性的表面發(fā)生作用的呢

除了氣體分子、離子和電子之外，在等離子體中還存在中性電性原子或原子團(tuán)，這些原子團(tuán)受到能量激發(fā)態(tài)的激發(fā)，它們是自由基，也是等離子體發(fā)出的光，在這些電性原子間的波長、能量的高低溫等離子體與物體表面的相互作用起著重要作用。
自由基如原子團(tuán)與物體表面反應(yīng)。
離子體中的自由基電性強(qiáng)，存在時(shí)間長，比離子體多。在等離子體中，自由基是揮發(fā)性很強(qiáng)的，它的作用主要是在化學(xué)反應(yīng)過程中能量傳遞的活(化)，在激發(fā)態(tài)下自由基能量很高，易于與物體表面的分子結(jié)合，形成新的自由基。此外，當(dāng)自由基與物體表面分子結(jié)合時(shí)，會釋放大量的結(jié)合能量，這將產(chǎn)生新的表面反應(yīng)推動力，從而消(除)物體表面物質(zhì)之間的化學(xué)反應(yīng)。
電子與物體表面的作用
由于電子與物體表面的碰撞，會促使吸附在表面的氣體分子分解解吸，而電子的大量碰撞則有利于產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)。因?yàn)殡娮淤|(zhì)量很小，所以比離子的移動速度要快得多，在等離子體處理過程中，電子比離子早到達(dá)物體表面，使表面產(chǎn)生負(fù)電荷，有利于引起進(jìn)一步的反應(yīng)。
離子與物體表面的作用
通常指帶正電荷的陽離子的作用，它會加速沖入帶負(fù)電荷的表面，這就是我們所說的，使物體表面獲得相當(dāng)大的動能，以撞擊除去表面附著的顆粒狀物質(zhì)，這種現(xiàn)象叫做濺射，而且通過離子的沖擊力，物體表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的幾率會大大增加。
紫外性與物體表面的反應(yīng)
UV具有很強(qiáng)的光能量，能夠破壞和分解附在物體表面的分子鍵。此外，紫外線具有很強(qiáng)的滲透性，可以通過物體表面深度達(dá)到幾微米。總之，等離子清洗是利用等離子體內(nèi)各種高能物質(zhì)及活(化)作用，將附著于物體表面的污垢*剝離除去。