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PTL-JH3 微流芯片真空熱壓鍵合機

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PTL plasma-----普特勒等離子技術創(chuàng)新帶來工藝變革

  PTL普特勒公司專注于等離子表面處理技術的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售。2005年,PTL公司電氣科技等離子事業(yè)部在中國山東設立工廠,致力于低溫等離子技術產(chǎn)品在亞洲區(qū)域的推廣與生產(chǎn),為中國及亞州客戶提供及時便捷的產(chǎn)品及技術服務。我們依托核心的常壓低溫等離子專業(yè)技術及豐富的經(jīng)驗,為客戶提供量身定制的工藝解決方案。

  PTL普特勒公司注重技術的創(chuàng)新,技術的進步推動工藝的變革。我們的等離子技術,為眾多行業(yè)的生產(chǎn)工藝帶來優(yōu)化和改變,節(jié)能、環(huán)保、高效、低耗。我們的產(chǎn)品涉及到幾乎所有的表面處理領域,塑膠行業(yè)、光伏行業(yè)、汽車制造、航天航空、包裝印刷、生物醫(yī)療等行業(yè)均得到成功的應用。PTL等離子技術的應用遍及世界各地。隨著技術研發(fā)的不斷深入,應用領域及市場范圍還在不斷的擴大。

   PTL普特勒等離子技術依靠技術進步為您改善原有的生產(chǎn)工藝,從而帶來生產(chǎn)效率的提高,生產(chǎn)成本的下降,產(chǎn)品質(zhì)量的提升。這是PTL產(chǎn)品研發(fā)的初衷。

 

主要技術產(chǎn)品:

中頻常壓低溫等離子技術

中頻真空低溫等離子技術

射頻真空低溫等離子技術

射頻常壓低溫等離子技術

 

 

 

等離子清洗機 等離子活化機 等離子刻蝕機 常壓等離子 真空等離子 射頻等離子 ,常壓射頻等離子 , 常壓射頻寬幅輝光等離子

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應用領域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè)
功率 2000W

產(chǎn)品特點及技術參數(shù):

產(chǎn)品特點:本系統(tǒng)根據(jù)芯片鍵合應用的需要進行設計,細節(jié)方面更適合于芯片鍵合領域的使用特點。系統(tǒng)已在眾多進行微流控芯片研發(fā)生產(chǎn)的科研院所及企業(yè)得到應用,技術成熟,運行穩(wěn)定。

(1)采用恒溫控制加熱技術,溫度控制確;

(2)采用強度鋁合金工作平臺,工作面平整光滑,熱導速度快,熱導均一;

(3)加熱面積大,涵蓋常用大小芯片;

(4)采用水冷降溫,降溫速度快、速率均一,有利于提高鍵合效果;

(5)壓力可調(diào),針對不同的材料選用不同的壓力控制;

(6)采用*的真空熱壓系統(tǒng),在保證芯片不損壞的情況下大幅度提高鍵合成功率。

技術參數(shù):

1、外形尺寸:575×475×610(長×寬×高)mm;

2、主機重量:約90kg;

3、鍵合平臺:150*150(長×寬)mm;

4、可鍵合芯片:0~140mm;

5、額定電壓:AC220V/50HZ

6、壓力范圍:0~3kN;

7、設備功率:總功率4KW(含真空泵和空壓機);

8、額定溫度:250℃

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