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上海伯東代理 KRI 考夫曼離子源 KDC 160

具體成交價以合同協(xié)議為準

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上海伯東是德國 Pfeiffer  真空設備, 美國  KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Gel-pak 芯片包裝盒, 日本 NS 離子蝕刻機, 比利時 Europlasma 等離子表面處理機 和美國 Ambrell 感應加熱設備等進口品牌代理商 .我們真誠期待與您的合作!




質(zhì)譜分析儀,氦質(zhì)譜檢漏儀,分子泵,離子源,真空閥門

供貨周期 一個月以上
KRI 考夫曼離子源 KDC 160

KRI 考夫曼離子源 KDC 160
上海伯東代理美國進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 160是目前考夫曼 KDC 系列大,離子能量強的柵極離子源, 適用于已知的所有離子源應用, 離子源 KDC 160 高輸出設計,大電流超過 1000 mA. 無需水冷, 降低安裝要求并排除腔體漏水的幾率, 雙陰極設計,標準配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 800 mA.

KRI 考夫曼離子源 KDC 160 技術參數(shù)

型號

KDC 160

供電

DC magnetic confinement

 - 陰極燈絲

2

 - 陽極電壓

0-100V DC

電子束

OptiBeam™

 - 柵極

專用, 自對準

 -柵極直徑

16 cm

中和器

燈絲

電源控制

KSC 1212

配置

-

 - 陰極中和器

Filament, Sidewinder Filament  或LFN 2000

 - 安裝

移動或快速法蘭

 - 高度

9.92'

 - 直徑

9.1'

 - 離子束

聚焦
平行
散設

 -加工材料

金屬
電介質(zhì)
半導體

 -工藝氣體

惰性
活性
混合

 -安裝距離

8-45”

 - 自動控制

控制4種氣體

* 可選: 可調(diào)角度的支架

KRI 考夫曼離子源 KDC 160 應用領域
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
離子濺射沉積和多層結構 IBSD
離子蝕刻 IBE

若您需要進一步的了解考夫曼離子源, 請參考以下聯(lián)絡方式
上海伯東: 羅先生 




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