EDI 膜堆是由夾在兩個(gè)電極之間一定對(duì)數(shù)的單元組成。在每個(gè)單元內(nèi)有兩類不同的室：待除鹽的淡水室和收集所除去雜質(zhì)離子的濃水室。淡水室中用混勻的陽(yáng)、填滿，這些樹(shù)脂位於兩個(gè)膜之間：只允許陽(yáng)離子透過(guò)的及只允許陰離子透過(guò)的

樹(shù)脂床利用加在室兩端的直流電進(jìn)行連續(xù)地再生，電壓使進(jìn)水中的水分子分解成 H+及 OH－，水中的這些離子受相應(yīng)電極的吸引，穿過(guò)陽(yáng)、陰離子交換樹(shù)脂向所對(duì)應(yīng)膜的方向遷移，當(dāng)這些離子透過(guò)交換膜進(jìn)入濃室后， H +和 OH－結(jié)合成水。這種 H+和 OH－的產(chǎn)生及遷移正是樹(shù)脂得以實(shí)現(xiàn)連續(xù)再生的機(jī)理。 當(dāng)進(jìn)水中的 Na+及 CI－等雜質(zhì)離子吸咐到相應(yīng)的離子交換樹(shù)脂上時(shí)，這些雜質(zhì)離子就會(huì)發(fā)生象普通混床內(nèi)一樣的離子交換反應(yīng)，并相應(yīng)地置換出 H+及 OH－。一旦在內(nèi)的雜質(zhì)離子也加入到 H+及 OH－向交換膜方向的遷移，這些離子將連續(xù)地穿過(guò)樹(shù)脂直至透過(guò)交換膜而進(jìn)入濃水室。這些雜質(zhì)離子由於相鄰隔室交換膜的阻擋作用而不能向?qū)?yīng)電極的方向進(jìn)一步地遷移，因此雜質(zhì)離子得以集中到濃水室中，然后可將這種含有雜質(zhì)離子的濃水排出膜堆。

幾十年來(lái)純水的制備是以消耗大量的酸堿為代價(jià)的，酸堿在生產(chǎn)、運(yùn)輸、儲(chǔ)存和使用過(guò)程中，不可避免地會(huì)帶來(lái)對(duì)環(huán)境的污染，對(duì)設(shè)備的腐蝕，對(duì)人體可能的傷害以及維修費(fèi)用的居高不下。反滲透和電除鹽的廣泛使用，將會(huì)帶給純水制備一次產(chǎn)業(yè)性革命。

工業(yè)用EDI高純水設(shè)備

將離子交換樹(shù)脂充夾在陰/之間形成EDI單元。EDI模塊中將一定數(shù)量的EDI單元間用格板隔開(kāi)，形成濃水室和淡水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽(yáng)電極。在直流電的推動(dòng)下，通過(guò)淡水室水流中的陰陽(yáng)離子分別穿過(guò)陰陽(yáng)進(jìn)入到濃水室而在淡水室中去除。而通過(guò)濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)，成為濃水. 一般以二級(jí)反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)18 MΩ.cm(25℃)，但是根據(jù)用途和系統(tǒng)配置設(shè)置，EDI超純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。

EDI技術(shù)被制藥工業(yè)、微電子工業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室所普遍接受。在表面清洗、表面涂裝、電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用中也日趨廣泛。