JSM-IT500掃描電子顯微鏡

非凡性能

■ 利用 Zeromag 進行快速導(dǎo)航

■ Live Analysis在圖像觀察過程中進行實時分析

■ SMILE VIEW LAB 能綜合管理 SEM 圖像 & EDS 分析數(shù)據(jù)

■ 安全、簡便 的樣品交換導(dǎo)航

日常分析更迅速！更簡便 !

從安裝樣品到生成報告，實時分析軟件使分析過程無縫連貫，作業(yè)速度更快，操作更加簡便。

■ Zeromag

從樣品架示意圖或者CCD圖像上尋找視野和分析位置。

可以快速地尋找視野 , 簡便地預(yù)約多個視野連續(xù)分析的位置。

■ Live Analysis （ 實時分析）

觀察過程中的 EDS 分析

在觀察過程中可以隨時實時顯示分析區(qū)域內(nèi)的特征 X 射線譜圖、自動定性分析結(jié)果和主要構(gòu)成元素。

還可以標(biāo)記“Alert”到感興趣的元素上。

■ 數(shù)據(jù)集中管理軟件 SMILE VIEWTM Lab

通過數(shù)據(jù)管理圖標(biāo)或獲取的數(shù)據(jù)一覽，顯示數(shù)據(jù)管理畫面后，可以重新查看或再次分析數(shù)據(jù)，還可以一鍵生成報告。

利用用戶日志也可以分別管理數(shù)據(jù)。由于數(shù)據(jù)相互聯(lián)動，進行重構(gòu)也很簡單。

實現(xiàn)了光學(xué)圖像和 SEM 圖像的整合

■ Zeromag

新功能尋找視野非常容易

順利到達高倍率觀察

新功能 Zeromag 將與樣品臺位置相關(guān)聯(lián)的樣品臺示意圖、CCD 圖像和 SEM 圖像實現(xiàn)了聯(lián)動，可以從光學(xué) CCD 圖像無縫過渡到 SEM 圖像，大幅度地提高了工作效率。

Zeromag 的特點

? 從光學(xué)圖像無縫過渡到 SEM 圖像

? 可以在樣品上預(yù)先選擇多個分析點

? 可以輕松回溯到已測試過的區(qū)域以作進一步的研究

蒙太奇

利用 Zeromag 可以自動簡便地進行大區(qū)域觀察及分析

蒙太奇是識別大區(qū)域上的異物和進行斷裂面分析等在大區(qū)域上獲取詳細信息的有效功能。

使用 Zeromag 功能 , 能很容易地選擇大面積的蒙太奇視野，同時還有內(nèi)置的“傾斜校正”、

“設(shè)定重疊視野”及“設(shè)定自動聚焦點”功能。

SM-IT500 是一款革命性的掃描電鏡，它只需很少的步驟就能獲取高倍率圖像。

● 二次電子圖像

利用高真空二次電子像觀察鐵銹的表面，在高倍率下可以觀察到細微的表面形貌。

● 背散射電子圖像

下圖是硬質(zhì)合金截面的背散射電子成分像，在低電壓的背散射電子模式下可以觀察每個碳化鎢顆粒的晶體取向（通道襯度）差異。

● 選擇掃描系統(tǒng)可獲取畫質(zhì)更好的低加速電壓圖像

可以選擇快速幀累積的掃描系統(tǒng)來減少樣品的放電現(xiàn)像。因此 ,即使在低加速電壓下觀察容易荷電或易受電子束損傷的樣品，也能容易地獲取高倍率圖像。

低真空模式

在物鏡附近進行差動抽氣顯著提高了低真空模式下的圖像質(zhì)量。此外，低真空模式的最大壓力可高達 650 Pa, 進一步擴大了應(yīng)用范圍。

超低真空圖像

含有大量水分的軟樣品會因為樣品室內(nèi)的壓力而無法保持原有的結(jié)構(gòu)。從前對這樣的樣品不進行特殊處理就無法觀察。當(dāng)?shù)驼婵諌毫Ψ秶鷶U展到 650 Pa 時，即使沒有特殊處理也可以在對樣品損傷很小的情況下進行觀察。

低真空二次電子圖像

盡管在低真空模式下，通過低真空二次電子像也可以清晰地觀察到樣品表面的細節(jié)。

測量功能

備有多種測量功能。

測量

利用該功能可以在觀察界面上測量距離、角度、面積等，結(jié)果能記錄和保存在 SEM 圖像上。

3D 成像

備有兩種 3D 成像的軟件。

● 立體圖像

按照指示拍攝兩張 SEM 照片，就可以制作立體圖像。即使沒有專門的軟件，只要用紅藍眼鏡就可以確認到樣品的表面形貌。

● 3D 圖像測量

特定的 3D 測量軟件。可用兩張 SEM 照片制作 3D 圖像。 還可以用 3D 圖像測量樣品表面形貌。

無縫式操作 SEM 和 EDS

■ Live Analysis ( 實時分析 )

觀察過程中實時顯示元素分析結(jié)果

利用 Live Analysis 功能可以隨時在觀察界面上顯示分析區(qū)域內(nèi)的特征 X 射線譜圖以及自動定性的主要構(gòu)成元素。通過此功能可以發(fā)現(xiàn)感興趣的元素和一些意想不到的元素。

Live Analysis（實時分析）的特點

? 隨時顯示特征 X 射線譜圖

?通過顯示樣品的主要元素

?對感興趣的元素顯示“Alert”

SEM 觀察界面

在 SEM 觀察界面上可以確認到正在觀察的譜圖和主要元素。

各個分析區(qū)域都與對應(yīng)的樣品臺坐標(biāo)關(guān)聯(lián)，并且顯示在樣品架示意圖上或者 CCD 圖像 上。

● EDS

X 射線能譜儀 (EDS) 是安裝在掃描電鏡 (SEM) 的附件，通過檢測電子束照射時樣品產(chǎn)生的特征 X 射線，從而進行元素分析。

詳細分析顯示界面

切換到詳細分析顯示界面后可以進行譜圖解析以及元素面分布分析等。

即使在分析期間，也可以從已經(jīng)獲取的數(shù)據(jù)中生成報告。

● 重返分析區(qū)域

分析區(qū)域內(nèi)的樣品臺位置和放大倍率與分析數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)。

在 SEM 觀察界面上可以重新回溯到任一分析區(qū)域做進一步測試。

● 導(dǎo)航

可以預(yù)先選取多個區(qū)域進行自動的連續(xù)分析。導(dǎo)航可以通過電子束追蹤探測到由于視野移動而造成的微小的圖像漂移，從而準(zhǔn)確地重新定位分析區(qū)域。

定性 & 定量分析

在 SEM 觀察界面上直接點擊想要分析的位置就能定位分析區(qū)域。

使用 Zeromag 功能在多個視野區(qū)域定位多個分析區(qū)域，能簡便地進行連續(xù)分析。

識別構(gòu)成元素

● 定性分析

在觀察過程中進行自動定性分析。雙擊小峰識別相對應(yīng)的元素。

能譜采集的過程中也可以進行元素的標(biāo)定。

● 定位區(qū)域類型

分析區(qū)域的定位方法除了有“點”、“區(qū)域”外，還有能根據(jù)圖像強度差異來定位的“顆?！钡确椒?。

元素面分布圖（Elemental map)

元素面分布圖可以從整個觀察界面或觀察界面內(nèi)定位的區(qū)域上獲取。由于每個像素點上都保存了能譜信息，因此不需要在測定前定位元素就可以采集元素面分布圖，在獲取數(shù)據(jù)后也可以添加或者修改元素。此外，在數(shù)據(jù)采集期間還可以實時顯示 net map。

顯示選定區(qū)域的元素分布

● 強度面分布圖 (Intensity map)

顯示定位能區(qū)的 X 射線強度分布。從全區(qū)域面分布圖可以獲取整個區(qū)域的 X 射線強度分布，從區(qū)域面分布圖可以獲取定位區(qū)域的 SEM 圖像和元素面分布圖。

提高元素面分布圖的準(zhǔn)確性

● 實時凈計數(shù)面分布圖

凈計數(shù)面分布圖可以分開每個像素點的譜峰，并且顯示的元素面分布圖消除了相近峰之間的影響。相比之下，計數(shù)面分布圖不可避免地反映了靠近定位元素的其他元素峰的強度。即使樣品含有不同元素，凈計數(shù)面分布圖也可以實時顯示固有強度的元素面分布圖。

● 強度面分布圖 (Intensity map) 與定量面分布圖

　(Quantitative map) 的比較Cd-Lβ(3.313 keV) 的譜峰、Cd-Lβ2(3.528 keV) 的譜峰和 Sn-Lα 的譜峰都彼此非常接近，因此在強度面分布圖中很難將 Cd 從 Sn 的峰中分開。通過定量面分布圖可以確認 Sn 元素原有的分布。

● 定量面分布圖（Quantitative map)

定量面分布圖對凈計數(shù)面分布圖添加了修正計算，用定量值來顯示面分布圖。除了凈計數(shù)面分布圖之外，定量值用圖像對比度來顯示固有強度的元素面分布圖。

利用元素面分布圖進行實時分析

● 彈出譜（Pop-up spectrum）

在元素面分布圖或 SEM 像中特指任意區(qū)域后，即使在采集元素面分布圖的過程中也可以定性或定量分析能譜信息。如果某個區(qū)域沒有在特指的元素面分布圖中出現(xiàn)，則會顯示出此區(qū)域的能譜，因而就可以確認是否有遺漏的元素。

明確元素的位置

● 疊加顯示多色元素面分布圖

對任意的元素面分布圖特指顏色后，可以實時和 SEM 像疊加顯示。如果多個元素重疊在同個區(qū)域，則會顯示出復(fù)合色。

能快速確認元素的分布

● 實時過濾

在面分布采集過程中進行圖像處理可以提高圖像的信噪比。因此，只要使用實時過濾，即使在短時間內(nèi)也可以確認到很清晰的元素分布。

直接生成報告

■ 數(shù)據(jù)統(tǒng)一管理軟件 SMILE VIEW TM Lab

SMILE VIEW TM Lab 是一個*集成的數(shù)據(jù)管理軟件，對與樣品臺坐標(biāo)關(guān)聯(lián)的 CCD 圖像、SEM 圖像、EDS 分析結(jié)果等數(shù)據(jù)能進行統(tǒng)一管理，可以快速生成報告。

SMILE VIEW TM Lab 數(shù)據(jù)管理界面

在 SMILE VIEW TM Lab 數(shù)據(jù)管理界面上能對所有數(shù)據(jù)進行集中管理。該管理器里保存的數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)了觀察位置、觀察 & 分析結(jié)果和通過樣品臺示意圖或 CCD 圖像獲取的低放大倍率圖像。因而可以輕松回顧或重新分析已經(jīng)采集的數(shù)據(jù)，還可以將結(jié)果反映到報告里。

SMILE VIEW TM Lab 的特點

?統(tǒng)一管理 CCD  圖像數(shù)據(jù)、SEM 圖像數(shù)據(jù)、EDS 分析結(jié)果。

?可以瞬間掌握每個視野的數(shù)據(jù)。

?支持各種數(shù)據(jù)搜索。

自動布局功能

SEM 圖像與譜圖或面分布等信息相互聯(lián)動，所以只要選擇一個數(shù)據(jù)相關(guān)所有數(shù)據(jù)都會在報告書里自動布局。如果數(shù)據(jù)太大，會自動排版添加頁面。此外，需要更改布局時，一鍵即可切換所有相關(guān)信息。

交換樣品的操作簡便 & 大型分析樣品室

■ 安全、簡便的樣品交換導(dǎo)航 !

引導(dǎo)從進樣到觀察的操作

樣品交換根據(jù)導(dǎo)航流程進行。從打開樣品室到開始觀察樣品為止，引導(dǎo)用戶正確操作，保證可以進行得既安全又簡便。

● 交換樣品很安全　

按照導(dǎo)航流程對樣品室泄真空時，樣品臺會自動回到樣品交換位置，可以簡單、快速地交換樣品。安裝樣品之前可以使用測試治具確認高度。

● 內(nèi)置菜譜功能，可以自動設(shè)置觀察條件。

在輸入樣品高度后的抽真空過程中，按照導(dǎo)航流程可以獲取 CCD 圖像, 觀察視野和使用菜譜功能設(shè)置觀察條件。

■ 樣品導(dǎo)航

可以方便地移動到目標(biāo)位置

● 樣品架示意圖

通過樣品架示意圖可以一目了然地確認樣品位置。同時，隨著樣品的傾斜或旋轉(zhuǎn)隨時顯示當(dāng)前的位置，可以直觀地確認樣品的位置。

● 樣品臺導(dǎo)航系統(tǒng)（SNS）

獲取樣品的彩色圖片后，雙擊就可以定位觀察位置。顯示在 Zeromag 屏幕上再搜索樣品區(qū)域，操作會更加順利。

■ 樣品交換

最大樣品尺寸 : 直徑 200 mm.

最大樣品高度 : 90 mm

Draw-out 方式

雖然有些樣品由于形狀、大小等原因很難安裝，但是只要利用快速抽真空系統(tǒng)才能實現(xiàn)的 Draw-out 方式，從大樣品室門里可以輕松安裝樣品。只需輕輕一觸即可開啟和關(guān)

閉樣品室門，這種方式可以支持各種形狀的樣品。

● 與抽真空結(jié)束的同時，會立即顯示目標(biāo)區(qū)域的“放大倍率圖像”

抽真空結(jié)束并進行以下步驟，

?定位目標(biāo)觀察區(qū)域

?設(shè)置觀察條件

?調(diào)整圖像之后會顯示“放大倍率圖像”。

安全機制

● 輸入樣品高度

標(biāo)配的樣品臺安全機構(gòu)根據(jù)樣品高度和用戶輸 入的高度而工作。即使是形狀復(fù)雜的樣品也能 夠安全地進行觀察與分析。

● 樣品室觀測裝置（CS）

用安裝在樣品室側(cè)面的相機能查看 樣品和探測器及物鏡的位置關(guān)系。 樣品室觀測裝置支持觀察形貌復(fù)雜 的樣品。

■ 多用途樣品室

可安裝多種附件

多用途樣品室共有 11 個接口，各探測器的位 置都經(jīng)過了優(yōu)化設(shè)計。EDS、EBSD、WDS 可以在同一工作距離下（10 mm）進行分析。兩個 EDS 接口和 EBSD 接口是同軸配置的， 與樣品臺的傾斜軸垂直。因此 EDS 和 EBSD 可以同步分析，雙 EDS 可以相向安裝。

■ 高速、高精度的馬達樣品臺 & 高速抽真空系統(tǒng)

可安裝多種附件

JSM-IT500 標(biāo)配了高速、高精度的 5 軸馬達樣品臺，并且最大載重量為 2 公斤。

快速抽真空的大型樣品室

樣品室抽真空大約需要 2 分 50 秒。新設(shè)計的真空系統(tǒng)使抽真空速度大大提高，可以在短時間內(nèi)對大容量樣品室抽真空。同時，通過渦輪分子泵和前置阱實現(xiàn)了清潔的真空環(huán)境。

JSM-IT500掃描電子顯微鏡技術(shù)參數(shù)規(guī)格

4 種配置 : BU ( 基本單元 ) / A ( 元素分析 ) / LV ( 低真空 ) / LA ( 低真空 & 元素分析 ).

主要選配項　　　

EDS主要規(guī)格　 適用于兩種配置 : A ( 元素分析 ) / LA ( 低真空 & 元素分析 ).