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spa2200 大氣等離子清洗機ap800,30mm旋轉(zhuǎn)噴頭

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 深圳金鉑利萊科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 spa2200
  • 產(chǎn)地 深圳市寶安區(qū)沙井街道南環(huán)路西部創(chuàng)業(yè)園D棟4樓
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2021/12/9 11:02:22
  • 訪問次數(shù) 1090

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深圳金鉑利萊科技有限公司成立于2014年,引用源自德國25年等離子系統(tǒng)研發(fā)技術(shù),是一家專業(yè)從事等離子蝕刻/清潔系統(tǒng)的研發(fā)與生產(chǎn)制造于一體的高科技企業(yè)。等離子清洗機公司簡介:公司成立以來一直為手機、電腦、線路板、LED、半導體、光電太陽能、汽車、醫(yī)療等高科技電子領(lǐng)域及大規(guī)模工業(yè)領(lǐng)域客戶提供等離子處理系統(tǒng)。

等離子清洗機應用領(lǐng)域:

光學鏡片清洗:清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。

去除氧化物:移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質(zhì),去除金屬材料表面的氧化物。

芯片清洗:清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。

表面修飾:高分子材料表面的修飾。

封裝領(lǐng)域:封裝領(lǐng)域中的清洗和改性,增強其粘附性,適用于直接封裝及粘和。

改善粘合力:改善粘接光學元件、光纖、生物醫(yī)學材料、宇航材料等所用膠水的粘和力


涂覆鍍膜:對玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性,使其活化,增強表面粘附性、浸潤性、相容性,顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量。

牙科領(lǐng)域:對鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預處理,增強其浸潤性和相容性。

醫(yī)用領(lǐng)域:修復學上移植物和生物材料表面的預處理,增強其浸潤性、粘附性和相容性及對醫(yī)療器械的消毒和殺菌。


等離子清洗機,大氣等離子清洗機,真空等離子清洗機

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè),電子,印刷包裝,紡織皮革

大氣等離子清洗機ap800,30mm旋轉(zhuǎn)噴頭是一種“干式”的清洗工藝,處理完后材料能夠立即進入下一步的加工過程,玻璃光學等離子清洗機作為重要的材料表面改性方法之一,是一種穩(wěn)定而又高效的工藝過程,處理溫度低至40℃,低溫處理確保樣品表面無損壞。

 


等離子清洗機ap800,30mm旋轉(zhuǎn)槍頭

 

(1)什么是大氣等離子清洗機ap800,30mm旋轉(zhuǎn)噴頭,等離子清洗機?

  等離子清洗機(plasma cleaner)也叫等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術(shù),利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。大氣等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實現(xiàn)清潔等目的。

 

(2)等離子清洗機的機理

主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。

 

等離子清洗技術(shù)在處理中具有如下優(yōu)勢:

 

(a) 環(huán)保節(jié)能。相比于傳統(tǒng)濕法清洗技術(shù),等離子清洗技術(shù)使干式工藝,不消耗水和化學試劑,省能源、無污染

 

(b) 具有在線生產(chǎn)能力,能實現(xiàn)全自動化處理,處理時間短,效率高,成本低

 

(c) 不分處理基材類型,均可進行處理,能處理形狀較復雜的材料,材料表面處理的均勻性好。

 

(d) 對材料表面的作用僅涉及到納米級處理,可在保持處理材料原本*的同時,賦予其另一種新的功能

 

(e) 處理溫度低,不對材料表面造成損害,常規(guī)樣品處理后較長時間內(nèi)保持效果良好

 

等離子清洗機,可根據(jù)客戶需求配置流水線生產(chǎn)方案

 

(3)產(chǎn)品結(jié)構(gòu)

等離子清洗機主要由高壓激勵電源、等離子發(fā)生裝置噴槍及控制系統(tǒng)三大組成部分構(gòu)成。

A、高壓激勵電源:

等離子體的產(chǎn)生需要高壓激勵,大氣等離子采用中頻電源激勵,頻率在10-40KHz。高壓則在4-10KV,參數(shù)根據(jù)樣品實際情況可進行調(diào)節(jié),達到效果

B、等離子發(fā)生裝置噴槍:

大氣等離子清洗機發(fā)生裝置噴槍,可分為射流直噴和旋轉(zhuǎn)直噴兩種,區(qū)別在于處理的有效面積不同。

C、控制系統(tǒng):

控制系統(tǒng)作用在于控制整個大氣低溫等離子清洗設(shè)備的運行,以及整體系統(tǒng)的保護。

 

(4)參數(shù)設(shè)置

大氣等離子清洗機參數(shù)

等離子清洗-金鉑利萊

(5)設(shè)備用途 

用于清洗及激活表面性能,幾乎所有的材料都能使用等離子進行精密清洗和表面激活 

應用于去除油脂、油、氧化物、纖維,去除硅氧樹脂(LABS-free),邦定、焊接、粘接前預處理,金屬部件涂裝前預處理等

電子行業(yè)的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理,手機屏幕的表面處理

國防工業(yè)的航空航天電連接器表面清洗

粘接前、涂裝前、印刷前的預處理,粘接、錫焊、電鍍前的表面處理

表面活化,生物材料的表面修飾,電線電纜表面噴碼,塑料表面涂覆,印刷涂布或粘接前的表面處理

鋰電池模組預處理和電池組的粘接,電池組塑料外殼和防護鋁殼的預處理與粘接 

COF 或 COB 制程的電極表面清潔,LCD 或 OLED 的玻璃清潔,IC 封裝 LED 封裝的表面清潔或改質(zhì),PCB 的表面清潔、活化、改質(zhì)或去殘膠 

 

 



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