薄膜應(yīng)力測量系統(tǒng)
- 公司名稱 巨力光電（北京）科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地 美國
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2024/10/16 14:28:13
- 訪問次數(shù) 3316
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AAA 太陽光模擬器,IV測試,雙燈太陽光模擬器,太陽能電池載流子遷移率測試系統(tǒng),太陽能電池瞬態(tài)光電壓 光電流測試，鈣鈦礦太陽能電池&疊層太陽能電池仿真軟件，多通道太陽能電池穩(wěn)定性測試系統(tǒng)，OLED光譜測量系統(tǒng)/角譜儀分析儀，OLED仿真軟件，高分子壓電系數(shù)測試儀，薄膜應(yīng)力測試系統(tǒng)，薄膜應(yīng)力測試儀，薄膜熱應(yīng)力測試儀，桌面原子層沉積系統(tǒng)，鈣鈦礦LED壽命測試儀，太陽能電池量子效率QE測量系統(tǒng)，石墨烯/碳納米管制備技術(shù)，桌面型納米壓印機(jī)，太陽能電池光譜響應(yīng)測試儀，SPD噴霧熱解成膜系統(tǒng)，電滯回線及高壓介電擊穿強(qiáng)度測試系統(tǒng)，電容充放電測試儀，薄膜生長速率測試儀
薄膜應(yīng)力測試系統(tǒng)，又名薄膜應(yīng)力計或薄膜應(yīng)力測量系統(tǒng)！采用非接觸MOS激光技術(shù)；不但可以對樣品表面應(yīng)力分布進(jìn)行統(tǒng)計分析，而且還可以進(jìn)行樣品表面二維應(yīng)力、曲率成像分析；并且這種設(shè)計始終保證所有陣列的激光光點始終在同一頻率運(yùn)動或掃描，從而有效的避免了外界振動對測試結(jié)果的影響；同時大大提高了測試的分辨率；適合各種材質(zhì)和厚度薄膜應(yīng)力分析；
典型用戶：Harvard University 2套，
Stanford University，
Johns Hopkins University，
Brown University 2套，
Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute，
西安交通大學(xué)，
中國計量科學(xué)研究院等、
半導(dǎo)體和微電子制造商（如IBM.，Seagate Research Center,Phillips Semiconductor,NEC，Nissan ARC,Nichia Glass Corporation）等；
相關(guān)產(chǎn)品：
*實時原位薄膜應(yīng)力儀（kSA MOS Film Stress Tester）：同樣采用多光束MOS技術(shù)，可裝在各種真空沉積設(shè)備上（如：MBE, MOCVD, sputtering, PLD, PECVD, and annealing chambers ects），對于薄膜生長過程中的應(yīng)力變化進(jìn)行實時原位測量和二維成像分析；
*薄膜熱應(yīng)力測量系統(tǒng)（kSA MOS Thermal-Scan Film Stress Tester）
薄膜應(yīng)力測試系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：
kSA MOS Film Stress Tester, kSA MOS Film Stress Measurement System，kSA MOS Film Stress Mapping System;
1.XY雙向程序控制掃描平臺掃描范圍：300mm (XY)（可選）；
2.XY雙向掃描速度：可達(dá)20mm/s；
3.XY雙向掃描平臺掃描步進(jìn)/分辨率：down to 2 μm ；
4.樣品holder兼容：50mm, 75mm, 100mm, 150mm, 200mm, and 300mm直徑樣品；
5.程序化控制掃描模式：選定區(qū)域、多點線性掃描、全面積掃描；
6.成像功能：樣品表面2D曲率、應(yīng)力成像，及3D成像分析；
7.測量功能：曲率、曲率半徑、應(yīng)力強(qiáng)度、應(yīng)力、Bow和翹曲等；
主要特點：
1.程序化控制掃描模式：單點掃描、選定區(qū)域、多點線性掃描、全樣品積掃描；
2.成像功能：樣品表面2D曲率成像，定量薄膜應(yīng)力2D成像分析；
3.測量功能：薄膜應(yīng)力、翹曲、曲率半徑等；
4.支持變溫?zé)釕?yīng)力測量功能，溫度范圍-65C to 1000C；
5.薄膜殘余應(yīng)力測量；
實際應(yīng)用
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