SE-VM是一款高精度快速測量光譜橢偏儀?？蓪崿F(xiàn)科研/企業(yè)級高精度快速光譜橢偏測量，支持多角度，微光斑，可視化調(diào)平系統(tǒng)等高兼容性靈活配置，多功能模塊定制化設(shè)計。

一、概述

      SE-VM 是一款超高精度快速測量光譜儀，其采用行業(yè)的橢偏創(chuàng)新技術(shù)，具備 1 雙旋轉(zhuǎn)補償器同步控制技術(shù)，2 透明基底消背反技術(shù) 等技術(shù)?？焖賹崿F(xiàn)光學(xué)參數(shù)薄膜和納米結(jié)構(gòu)的表征分析，適用于薄膜材料的快速測量表征。支持多角度，微光斑，可視化調(diào)平系統(tǒng)等高兼容性靈活配置，多功能模塊定制化設(shè)計。

1.高精度橢偏測量解決方案；

2.超高精度、快速無損測量；

3. 支持多角度、微光斑、可視化調(diào)平系統(tǒng)功能模塊靈活定制；

4.  豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結(jié)構(gòu)模型庫，保證強大數(shù)據(jù)分析能力。

二、光譜橢偏儀產(chǎn)品特點

      1.采用高性能進口復(fù)合光源，光譜覆蓋可見到近紅外范圍 (380-1000nm)，可支持擴展紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)

2.  高精度旋轉(zhuǎn)補償器調(diào)制、PCRSA配置，實現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集；

3. 支持系列配置靈活，可根據(jù)不同應(yīng)用場景支持多功能模塊化定制；

4. 數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料；

三、產(chǎn)品應(yīng)用

       廣泛應(yīng)用于鍍膜工藝控制、tooling校正等測量應(yīng)用,實現(xiàn)光學(xué)薄膜、納米結(jié)構(gòu)的光學(xué)常數(shù)和幾何特征尺寸快速的表征分析。