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Phoenix G2 ALD System 全自動原子層沉積系統(tǒng)(ALD)
- 公司名稱 香港電子器材有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 Phoenix G2 ALD System
- 產(chǎn)地 美國
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2020/8/27 17:04:07
- 訪問次數(shù) 502
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美國普林斯頓CCD、光譜儀,加拿大Sciencetech太陽能模擬器、BNC延遲脈沖器、Gentec光電探測器、海洋光學(xué)光譜產(chǎn)品、半導(dǎo)體前道產(chǎn)品、Crystalaser激光器、EOS紅外探測器、半導(dǎo)體后道產(chǎn)品
產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,航天 |
全自動原子層沉積系統(tǒng)(ALD)
Veeco(之前稱之為Cambridge Nanotech)已經(jīng)有15年以上的ALD研發(fā)生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大學(xué),05年搬到Boston并生產(chǎn)出Thermal ALD - Savannah, 之后生產(chǎn)出Plasam ALD - Fuji、批量生產(chǎn)ALD-Phoenix。2017年被Veeco收購,并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今為止,Veeco在ALD設(shè)備已有15年多的經(jīng)驗(yàn),已安裝五百多臺ALD設(shè)備。
方式: Thermal batch ALD
優(yōu)勢: 大批量熱ALD鍍膜,可靠成熟,設(shè)計(jì)靈活,易于使用,并具有許多操作界面,許多內(nèi)置安全功能
薄膜: 高達(dá)370 mm x 470 mm (Gen 2.5 Panels) / 100mm 晶片 - 240 to 360 / 150mm 晶片 - 80 to 160 / 200mm 晶片 - 80 to 100 / 300 mm 晶片 - up to 40 / 其它3D 對象自定義支架
設(shè)備尺寸: 900 mm x 1370 mm x 1700 mm
功率: 208 VAC 3 Phase, 8500 W (包含泵)
ZG溫度: 可達(dá)285°C
沉積均一性: Al2O3 晶片<1.5% / Al2O3批量<1%
前驅(qū)體源瓶: 3.1 l 源瓶或 600 ml
載氣/排氣: N2 or Ar MFC flow control
原位分析選項(xiàng): 臭氧發(fā)生器, LVPD,集成手套箱, 半自動負(fù)載
自動負(fù)載, SECS/GEM 界面