日立SU9000超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡是專門為電子束敏感樣品和需大300萬倍穩(wěn)定觀察的*半導(dǎo)體器件，高分辨成像所設(shè)計(jì)。

• 新的電子槍和電子光學(xué)設(shè)計(jì)提高了低加速電壓性能。

  • 0.4nm / 30kV（SE）

  • 1.2nm / 1kV（SE）

  • 0.34nm / 30kV（STEM）

• 用改良的高真空性能和的電子束穩(wěn)定性來實(shí)現(xiàn)高效率截面觀察。

• 日立SU9000超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡采用全新設(shè)計(jì)的Super E x B能量過濾技術(shù)，高效，靈活地收集SE / BSE/ STEM信號。

• 低加速電壓觀察時(shí)分辨率更高，可更好地觀察樣品表面的細(xì)微形狀和更有效地降低樣品的損壞

• 全新設(shè)計(jì)的電子光學(xué)系統(tǒng)和信號處理技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高速掃描和低噪音的觀察

• 和以前的常規(guī)掃描電子顯微鏡相比^＊2，自動功能縮短^＊3了大約11秒

• 具有在低真空時(shí)可以非常好地觀察樣品表面的細(xì)微形狀的“UVD（超高靈敏度可變壓力探測器）”^＊4

• 具有實(shí)現(xiàn)了實(shí)時(shí)立體成像的“實(shí)時(shí)立體觀察功能”^＊4

^（*2）：和日立SEM S-3400N相比
^（*3）：根據(jù)觀察條件的不同，時(shí)間會有變動