nanoSAQLA 納米粒徑儀
- 公司名稱 大塚電子(蘇州)有限公司
- 品牌 OTSUKA/日本大冢
- 型號 nanoSAQLA
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2020/6/12 9:39:52
- 訪問次數(shù) 1666
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zeta電位?粒徑?分子量測量系統(tǒng),晶圓在線測厚系統(tǒng),線掃描膜厚儀,顯微分光膜厚儀,線掃描膜厚儀,分光干涉式晶圓膜厚儀,相位差膜?光學(xué)材料檢測設(shè)備,非接觸光學(xué)膜厚儀,小角激光散射儀,多檢體納米粒徑量測系統(tǒng),量子效率測量系統(tǒng)
產(chǎn)地類別 | 進口 | 分散方式 | 濕法分散 |
---|---|---|---|
價格區(qū)間 | 20萬-30萬 | 儀器種類 | 動態(tài)光散射 |
應(yīng)用領(lǐng)域 | 食品,電子,制藥 |
nanoSAQLA納米粒徑儀利用動態(tài)光散射法(DLS法)的粒徑測量(粒徑0.6nm~10μm)儀器。
追求更高品質(zhì)管理的需求,搭載了各種功能。
可對應(yīng)檢體范圍廣,低濃度~高濃度類,新光學(xué)系,輕便•小型,實驗室標配。實現(xiàn)標準1分鐘高速測量。
新產(chǎn)品,非浸泡型,不受夾雜物的影響,無自動取樣器,“5檢體連續(xù)測量”的標準設(shè)備。
特點
- 只需一臺,輕松實現(xiàn)5檢體連續(xù)測量
- 低濃度到高濃度都可對應(yīng)
- 高速測量,標準時間1分鐘
- 搭載了簡單的測量功能 (1鍵測量)
- 內(nèi)置非浸泡型的cell block,無分注夾雜物
- 搭載溫度梯度功能
測量范圍(理論值)
- 粒徑 0.6nm~10μm
- 濃度范圍 0.00001~40%
- 溫度范圍 0~90℃*
式樣
型號 | 納米粒徑儀 |
---|---|
測量原理 | 動態(tài)光散射法 |
光源 | 高出力半導(dǎo)體激光*1 |
檢出器 | 高感光度APD |
連續(xù)測量 | 5檢體 |
測量范圍 | 0.6nm ~ 10μm |
對應(yīng)濃度 | 0.00001 ~ 40% *2 |
溫度 | 0 ~ 90℃ (有溫度梯度功能) *3 |
規(guī)格 | 遵照 ISO 22412:2017 |
遵照JIS Z 8828:2013 | |
遵照JIS Z 8826:2005 | |
尺寸 | W240 X D480 X H375 mm |
重量 | 約18 kg |
軟件 | 平均粒徑解析 (累積法解析) |
粒度分布解析 | |
(Marquardt法/NNLS/Contin法/Unimodal法) 粒度分布疊寫 逆相關(guān)函數(shù)?殘差plot 粒徑monitor 粒徑顯示范圍 (0.1 ~ 106 nm) 分子量計算功能 |
*1 根據(jù)激光安全基準 (JIS C6802)級別區(qū)分,本儀器的安全級別為1級。
*2 Latex120nm:0.00001 ~ 10%、牛黃膽酸:~40%
*3 標準glass cell的批量測量的情況。
一次性cell或連續(xù)測量時, 15 ~ 40℃ (不對應(yīng)溫度梯度)
測量范例