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化工儀器網>產品展廳>化工機械設備>干燥設備>盤式干燥機系列>PLG 焦磷酸鉀盤式干燥機

PLG 焦磷酸鉀盤式干燥機

參考價 82000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 常州市鼎卓干燥設備有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 PLG
  • 產地 常州市武進區(qū)橫山橋鎮(zhèn)工業(yè)園
  • 廠商性質 經銷商
  • 更新時間 2020/6/6 12:46:10
  • 訪問次數(shù) 412

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企業(yè)簡介

常州市鼎卓干燥設備有限公司,位于中國常州鄭陸鎮(zhèn)工業(yè)園區(qū),地處長江金三角,東臨上海港,南鄰312國道和京杭大運河,距滬寧高速公路出口3公里,水陸交通十分便利,地理位置*。是一家集研發(fā)、制造、銷售及施工為一體的的專業(yè)干燥設備供應商。公司主要生產盤式干燥機、槳葉干燥機、噴霧干燥機、閃蒸干燥機、流化床干燥機等,并在化工、食品、制藥、環(huán)保等干燥領域積淀諸多優(yōu)勢工程經驗。

  坐落于鄭陸鎮(zhèn)工業(yè)園區(qū)的生產廠區(qū)占地面積超過3000平米,計劃中的蘇北廠區(qū)將達到8000平米,具有*的冷軋板加工、自動焊接、數(shù)控等離子、自動拋光等優(yōu)勢裝備,產品質量得到用戶高度認可。公司憑借豐富的生產管理經驗、優(yōu)良的加工工藝和裝備、專業(yè)的施工團隊,鼎卓產品業(yè)績顯赫,信譽*。 

  “言如鼎,卓永恒”,這是鼎卓公司一直以來秉承的經營理念。產品基于品質,成于信譽,升華于文化。在這新的歷史時期,鼎卓將著力技術、制度和文化的積淀,遠景計劃不斷展開、生產經營強勢推進、戰(zhàn)略構想繼續(xù)深化。我們將立足自身的發(fā)展實際,立足增長方式的多元保障,立足員工的智慧和力量,潛心推進應用技術創(chuàng)新,加速提升綜合競爭能力,為努力打造創(chuàng)新型、文化型企業(yè)不懈奮斗。   

      展望未來,鼎卓會一如既往地服務好每一個新老客戶, 在精益求精的道路上不斷前行!

 

干燥設備、混合設備、造粒設備、粉碎設備、篩分設備

操作方式 連續(xù)式 傳熱面積 55.4m2
功率 5.5kW 適用物料 多種可用
應用領域 醫(yī)療衛(wèi)生,食品,農業(yè),石油

焦磷酸鉀盤式干燥機介紹

盤式干燥機是一種高效節(jié)能的傳導型連續(xù)干燥設備。該設備主要包括殼體、框架、大小空心加熱盤、主軸、耙臂及耙葉、加料器、卸料裝置、減速機和電動機等部件??招募訜岜P是該干燥器的主要部件,加熱盤分大盤和小盤且成對配置。其內部通以飽和蒸汽、熱水或導熱油作為加熱介質。故加熱盤實際是一個壓力容器。因此在其內部以一定排列方式焊有折流隔板或短管,提高傳熱效果的同時提高了其承載能力。每層加熱盤上均裝有十字耙臂并固定在主軸上。

盤式干燥機已有幾十年發(fā)展歷史,開始只用于硫鐵礦的焙燒、煤粉的干燥,由于設備投資大,以及技術方面的一些問題,未引起重視。20世紀80年代后期,由于節(jié)能、改善工作環(huán)境和處理一次而難干燥物料的需要,許多國家又著手研究和開發(fā)盤式連續(xù)干燥器,改進工藝,降低成本,提高性能,將其廣泛應用于化工、醫(yī)藥、食品等行業(yè)中,取得了很好的效益。

盤式干燥機開始使用的是間歇操作的固定盤式干燥機。19世紀中葉,洞道式盤式干燥機的使用,標志著盤式干燥機由間歇操作向連續(xù)操作方向的發(fā)展?;剞D圓筒盤式干燥機則較好地實現(xiàn)了顆粒物料的攪動,干燥能力和強度得以提高。一些行業(yè)則分別發(fā)展了適應本行業(yè)要求的連續(xù)操作盤式干燥機,如紡織、造紙行業(yè)的盤式干燥機。

 

焦磷酸鉀盤式干燥機技術特性

◆干燥盤
◎設計壓力:一般為0.4MPa,大可達1.6MPa。
◎使用壓力:一般≤0.4MPa,可達1.6MPa。
◎加熱介質:蒸汽、熱水、導熱油、干燥盤溫度100℃時使用熱水加熱,100℃~150℃時用≤0.4MPa飽和水蒸汽或者過熱蒸汽加熱,150℃~320℃時用導熱油加熱,>320℃時可采用電、導熱油、熔鹽等方式加熱。
◆物料傳送系統(tǒng)
◎主軸轉速:1~10轉分,電磁或變頻無極調速。
◎耙臂:每層干燥盤上有2~8支固定在主軸上的耙臂。
◎耙葉:絞接在耙臂上,能隨盤面上下浮動保持接觸,有多種形式。
◎碾滾:對易結塊和需要粉碎的物料,在適當位置配加碾滾,可以強化傳熱和干燥過程。
◆殼體有常壓、密閉、真空三種型式
◎常壓型:圓筒或八棱柱型,有整體和對開兩種結構。加熱介質進出口主管道可以在殼體內,也可以在殼體外。
◎密閉型:圓筒型殼體,能承受5Kpa內壓,加熱介質進出口主管道可以在殼體內,也可以在殼體外。
◎真空型:圓筒型殼體,設計壓力為0.1Mpa,加熱介質進出口主管道在殼體內。

 

 

 



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