Avio™ 200 系統(tǒng)能處理未經(jīng)稀釋的高基體樣品，為ICP 帶來新的性能及靈活性。 而硬件特性與直觀易用的軟件相結(jié)合，使多元素測量變得與單元素分析一樣簡單。 

Avio 200 可通過以下性能，提供高效的操作、可靠的數(shù)據(jù)和低的擁有成本：

        l   ICP 中低的氬氣消耗

        l   快的 ICP 啟動（從關(guān)機(jī)狀態(tài)啟動，光譜儀在短短幾分鐘內(nèi)即可準(zhǔn)備就緒）

        l   對所有適用的元素都具有靈敏度與分辨率

        l   具有雙向觀測技術(shù)的寬線性范圍

雙向觀測功能

Avio 200 系統(tǒng)獲得的雙向觀測功能。即使是波長大于 500 納米或低于 200 納米的元素也*可以測量，即便是在 ppb 的含量水平。該 Avio 系統(tǒng)的雙向觀測設(shè)計也提供了可擴(kuò)展的線性動態(tài)范圍。

可簡化您的開發(fā)方法，同時借助 Avio 200 系統(tǒng)的 PlasmaCam™技術(shù)，便利遠(yuǎn)程監(jiān)控等離子體。

 PlasmaShear 系統(tǒng)，可實現(xiàn)無氬干擾消除

為了消除軸向觀測的干擾，需要消除等離子體的冷尾焰。 

常規(guī)ICP消除尾焰需要消耗高達(dá) 4 升/分鐘的氬氣流量，Avio系統(tǒng)的 PlasmaShear™ 技術(shù)只需空氣即可。無需高維護(hù)、高提取系統(tǒng)或錐體。就是一個集成的、自動化的、能提供軸向分析的干擾消除系統(tǒng)。