磁控離子濺射儀為掃描電鏡用戶(hù)在制樣過(guò)程中提供了更廣泛的選擇，以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。

在電子顯微鏡領(lǐng)域內(nèi)，往往需要對(duì)樣品進(jìn)行表面鍍膜從而使樣品表面成像或者圖像質(zhì)量得到改善。在樣品表面覆蓋一層導(dǎo)電的金屬薄膜可以消除荷電反應(yīng)，降低電子束對(duì)樣品表面的熱量損傷，可以提高SEM對(duì)樣品進(jìn)行形貌觀察,所需要的二次電子信號(hào)量。噴金后可以提供二次電子產(chǎn)額,提升信號(hào)強(qiáng)度和圖像質(zhì)量。

　 濺射電流12mA,濺射時(shí)間10s 濺射電流10mA,濺射時(shí)間20s 　 濺射電流12mA,濺射時(shí)間30s 　 濺射電流10mA,濺射時(shí)間60s

離子濺射儀系統(tǒng)特點(diǎn)：

○ 儀器采用微處理器控制，自動(dòng)化程度高精確控制、易于操作；

○ 低電壓、較好真空度下的實(shí)現(xiàn)大電流濺射，可濺射金、銀、銅、鉑等常用金屬靶材；

○ 金膜顆粒絕大多數(shù)＜10nm，顆粒更細(xì)，均勻度更好，附著力更強(qiáng)，觀測(cè)效果更佳；

○ 靶材利用率更高，磁控濺射靶材利用率為直流濺射的2倍,為用戶(hù)節(jié)約靶材費(fèi)用.

○ 電子和負(fù)離子被磁場(chǎng)束縛在靶材附近，鍍膜過(guò)程中基本沒(méi)有溫升，適用溫度敏感性樣品；

○ 采用微處理器控制，擴(kuò)展性能好，可實(shí)時(shí)顯示真空度、濺射電流、濺射時(shí)間、設(shè)備運(yùn)行時(shí)間、靶材使用時(shí)間等，方便了解設(shè)備情況，具備過(guò)流、真空保護(hù)功能，安全可靠；

○ 內(nèi)置用戶(hù)使用向?qū)Ш驼f(shuō)明書(shū)，方便用戶(hù) 操作；內(nèi)置膜厚估算公式，便于用戶(hù)了 解離子濺射儀工作狀態(tài)；