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鈣鈦礦鍍膜機(jī)
- 公司名稱 深圳市科晶智達(dá)科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/11/5 13:13:20
- 訪問次數(shù) 1493
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產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電氣 |
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鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等,可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗(yàn)工作,廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無(wú)機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽(yáng)能電池、OLED等研究領(lǐng)域。
功能特點(diǎn) |
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樣品位于真空室上方,蒸發(fā)源位于真空室下方,向上蒸發(fā)鍍膜,且蒸發(fā)源帶有擋板裝置。
設(shè)有烘烤加熱功能,可在鍍膜過程中加熱樣品,MAX烘烤加熱溫度為180℃。
設(shè)有斷水、斷電連鎖保護(hù)報(bào)警裝置及防誤操作保護(hù)報(bào)警裝置。
技術(shù)參數(shù) | ||
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鍍膜室 | ● 不銹鋼材料,采用方形前后開門結(jié)構(gòu),內(nèi)帶有防污板,腔室尺寸約為600mm×450mm×450mm | |
真空排氣系統(tǒng) | ● 采用分子泵+機(jī)械泵系統(tǒng) | |
真空度 | ● 鍍膜室極限真空≤6×10-4Pa | |
系統(tǒng)漏率 | ● ≤1×10-7Pa | |
蒸發(fā)源 | ● 安裝在真空室的下底上;有機(jī)蒸發(fā)源4個(gè)、容積5ml,2臺(tái)蒸發(fā)電源,可測(cè)溫、控溫,加熱溫度400℃,功率0.5KW;無(wú)機(jī)蒸發(fā)源4套、容積5ml,2臺(tái)蒸發(fā)電源,加熱電流300A,功率3.2KW;蒸發(fā)源擋板采用自動(dòng)磁力控制方式控制其開啟 | |
樣品架 | ● 安裝在真空室的上蓋上,可放置?120mm的樣品、載玻片,旋轉(zhuǎn)速度0-30rpm | |
加熱溫度 | ● RT-180℃,測(cè)溫、控溫 | |
膜厚控制儀 | ● 石英晶振膜厚控制儀,膜厚測(cè)量范圍0-999999? |
鈣鈦礦鍍膜機(jī)
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