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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>試劑標物>常用實驗試劑>普通試劑>2035/2050/2075/2100 光刻膠SU-8 2000

2035/2050/2075/2100 光刻膠SU-8 2000

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 邁可諾技術(shù)有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 2035/2050/2075/2100
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時間 2024/5/17 8:41:22
  • 訪問次數(shù) 2164
產(chǎn)品標簽

光刻膠SU-8膠光敏膠

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半導(dǎo)體化工領(lǐng)域?qū)I(yè)實驗設(shè)備供應(yīng)商:邁可諾是一家富有創(chuàng)新精神的高科技公司,專業(yè)提供光電半導(dǎo)體化工實驗室所需設(shè)備耗材的全套解決方案提供商,邁可諾從事開發(fā)、設(shè)計、生產(chǎn)并營銷質(zhì)量可靠的、安全易用的技術(shù)產(chǎn)品及優(yōu)質(zhì)專業(yè)的服務(wù),幫助我們的客戶和合作伙伴取得成功。我們成功的基礎(chǔ)是幫助客戶做出更好的選擇和決定,尊重他們的決定,并協(xié)助他們實現(xiàn)高效率的科研成果,追求豐富有意義的生活。



勻膠機,光刻機,顯影機,等離子清洗機,紫外臭氧清洗機,紫外固化箱,壓片機,等離子去膠機,刻蝕機,加熱板

供貨周期 一個月 規(guī)格 100ML/250ML/500ML/1L
應(yīng)用領(lǐng)域 電子 主要用途 改善涂層性能,更快干燥以提高產(chǎn)量,垂直側(cè)壁

為了獲得大的過程可靠性,在涂覆SU-8 2000抗蝕劑之前,基材應(yīng)清潔干燥。 為了獲得很好的結(jié)果,應(yīng)使用食人魚濕法蝕刻(使用H2SO4和H2O2)清潔基材,然后用去離子水沖洗。

基材也可以使用反應(yīng)離子蝕刻進行清潔

(RIE)或任何裝有氧氣的桶式灰燼。 通常不需要粘合促進劑。 對于包括電鍍的應(yīng)用,建議使用MCC Primer 80/20(HMDS)對基材進行預(yù)處理。

涂層

SU-8 2000抗蝕劑有十二種標準粘度。 本加工指南文件涉及四種產(chǎn)品:SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050和SU-82075。圖1。

提供選擇合適的SU-8 2000抗蝕劑和旋轉(zhuǎn)條件以實現(xiàn)所需膜厚所需的信息。

推薦節(jié)目

1.)為基板直徑的每英寸(25毫米)分配1ml的抗蝕劑。

2.)以100 rpm /秒的加速度在500 rpm下旋轉(zhuǎn)5-10秒。

3.)以300 rpm /秒的速度在2000 rpm下旋轉(zhuǎn)30秒。



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