低酒精濃度魔芋粉濕法粉碎設備,38°酒精濕法粉碎機,高剪切魔芋粉濕法粉碎,魔芋精粉濕法粉碎加工方法,管線式研磨均質(zhì)機,小試中式一體研磨均質(zhì)機,
低酒精濃度濕法加工魔芋精粉的方法
A、將魔芋清洗去皮;B、將魔芋切分護色;C、在溫度為-10℃~0℃的環(huán)境下對魔芋進行粉碎、研磨與分離處理:首先,將魔芋與濃度為5%~15%的酒精混合后粉碎得到漿狀物,然后將得到的漿狀物進行固液分離得到魔芋粉,接著將魔芋粉與濃度為5%~15%的酒精混合后研磨得到固液混合物,后,對得到的固液混合物進行離心分離,得到魔芋精粉;D、干燥處理。該方法是在溫度為-10℃~0℃的環(huán)境下對魔芋進行粉碎、研磨與分離處理,這樣只需使用濃度為5%~15%的酒精即可防止精粉粒子發(fā)生過度溶脹或形成溶膠,其加工成本大大降低。適合在食品加工領域推廣應用。
魔芋又稱筠篛、磨芋、花桿蓮、麻芋子、蛇頭草、花桿天南星等,是天南星科魔芋屬的多年生草本植物。魔芋是一種低熱能、低蛋白質(zhì)、低維生素、高膳食纖維的食品,高膳食纖維是有效的營養(yǎng)成分。魔芋是目前發(fā)現(xiàn)的*良的可深性膳食纖維,由魔芋經(jīng)物理方法加工獲得的魔芋精粉中主要的有效成分是葡甘聚糖。近年來的研究證明,魔芋中所含的葡甘聚糖對降低糖尿病人的血糖有較好的效果,因其分子量大,粘性高,能延緩葡萄糖的吸收,有效地降低餐后血糖,從而減輕胰島的負擔。又因它吸水性強,含熱量低,既能增加飽腹感,減輕饑餓感,又能降低體重,所以它又是體胖減肥者的理想食品。
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所謂濕法加工魔芋精粉,是指在加工精粉的過程中采用保護性溶劑浸潰保護加工,使精粉不膨化、不褐變,經(jīng)粉碎、研磨、分離、干燥等工序制取濕法精粉全過程的方法。濕法加工采用的保護性溶液包括有機溶劑保護液和無機溶劑保護液,有機溶劑保護液主要指以食用酒精作為控溶劑為主配兌的保護液,無機溶劑保護液主要指以四硼酸鈉(硼砂)為主配兌的保護液,前者保護液成本較高,但精粉質(zhì)量好,精粉產(chǎn)品用于醫(yī)藥、食品等各行業(yè),后者保護液成本低,但加工的精粉不能食用,僅能作為工業(yè)用精粉。
魔芋精粉濕法加工忌精粉粒子過度溶脹,或形成溶膠,過度溶脹或形成溶膠后,即使用乙醇脫水,再干燥,產(chǎn)品的溶解性也將大為下降。此外,精粉粒子過度溶脹會造成葡甘聚糖的嚴重損失,因此,現(xiàn)有的濕法加工魔芋精粉的工藝過程中,所使用的酒精其濃度通常都不低于30%,才能保證精粉粒子不發(fā)生過度溶脹或形成溶膠,但由于高濃度的酒精價格昂貴,這也造成了濕法加工魔芋精粉的加工成本較高。
上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
CMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
CMD2000研磨分散機為立式分體結構,有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
研磨分散機的特點:
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨
2、 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
從設備角度來分析,影響分散效果因素有以下幾點:
1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結構(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設備的期限就不能再好了。)
線速度的計算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉子直徑)X 轉速 RPM / 60
所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素,研磨分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的
CMD2000系列研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
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