磁控濺射與蒸發(fā)鍍膜2
- 公司名稱 沈陽美濟(jì)真空科技有限公司-J
- 品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2019/5/25 15:21:26
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空機(jī)械加工廠,有數(shù)控車床,數(shù)控剪板機(jī),數(shù)控折彎機(jī),氬弧焊機(jī),其它如超高真空檢漏儀、超聲波清洗機(jī)等
產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
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磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程。入射粒子在靶中經(jīng)歷復(fù)雜的散射過程,和靶原子碰撞,把部分動量傳給靶原子,此靶原子又和其他靶原子碰撞,形成級聯(lián)過程。在這種級聯(lián)過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運(yùn)動的足夠動量,離開靶被濺射出來。
磁控濺射設(shè)備性能參數(shù):
1、磁控濺射與蒸發(fā)鍍膜2 極限真空:2×10-6Pa??慑兇笾睆?英寸基片一片?;謴?fù)真空:從大氣到7×10-4Pa ≦30min(新平臺充干燥氮?dú)猓?。平臺總體漏率:關(guān)機(jī)12小時真空度≤1Pa。
分子束外延設(shè)備性能參數(shù):
1、磁控濺射與蒸發(fā)鍍膜2 極限真空:5×10-7Pa。(配400L/S離子泵及2000L/S升華泵后極限真空可達(dá)2×10-8Pa)可鍍大直徑4英寸基片一片。恢復(fù)真空:從大氣到7×10-4Pa ≦40min(新設(shè)備充干燥氮?dú)猓?,設(shè)備總體漏率:關(guān)機(jī)12小時真空度≤0.2Pa。