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磁控濺射

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磁控濺射

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沈陽(yáng)美濟(jì)真空科技有限公司是從事真空鍍膜技術(shù)的高科技公司。

  本公司專(zhuān)注于真空產(chǎn)品設(shè)計(jì)制造、薄膜技術(shù)、真空電子產(chǎn)品的設(shè)計(jì)制造、自動(dòng)控制系統(tǒng)及智能控制軟件的研發(fā)。

  公司擁有真空機(jī)械加工廠,有數(shù)控車(chē)床,數(shù)控剪板機(jī),數(shù)控折彎?rùn)C(jī),氬弧焊機(jī),其它如超高真空檢漏儀、超聲波清洗機(jī)等,研發(fā)制造的真空產(chǎn)品能夠滿足客戶要求。

  公司設(shè)計(jì)工程師*以來(lái)一直專(zhuān)注于高真空、超高真空領(lǐng)域的研究,成熟產(chǎn)品諸如磁控濺射鍍膜設(shè)備、蒸發(fā)鍍膜設(shè)備、有機(jī)小分子發(fā)光顯示(OLED)、分子束外延設(shè)備(MBE)、離子鍍膜設(shè)備、真空熱壓爐、真空退火爐,真空室真空度可達(dá)3×10-8Pa,真空爐溫度可達(dá)1700攝氏度。

空機(jī)械加工廠,有數(shù)控車(chē)床,數(shù)控剪板機(jī),數(shù)控折彎?rùn)C(jī),氬弧焊機(jī),其它如超高真空檢漏儀、超聲波清洗機(jī)等

產(chǎn)地類(lèi)別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 面議

1、基片尺寸:≥110×110mm,基片加擋板。
2、基片臺(tái):基片臺(tái)旋轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速0-25rpm連續(xù)可調(diào),光控定位;
襯底加熱:磁控濺射采用真空加熱器,室溫~1500℃可調(diào)可控;
反濺清洗;磁控濺射采用射頻電源對(duì)基片表面進(jìn)行“清洗/活化”;
3、基片架轉(zhuǎn)速0~25轉(zhuǎn)/分,可控可調(diào)。
4、基片架可加熱、可旋轉(zhuǎn)、可升降。
5、靶面到基片距離60~90mm可調(diào)。
6、Ф3英寸圓形平面磁控濺射永磁靶;可鍍鐵磁材料的磁控濺射靶1支,可鍍普通靶材的磁控濺射靶1支;靶材尺寸Ф3英寸。
7、鍍膜室極限真空:≤5×10-5Pa,抽至 10-4Pa≤20min;。
8、速率和膜厚監(jiān)控:石英晶振膜厚儀,在線監(jiān)測(cè)蒸發(fā)速率,監(jiān)控膜厚;厚度監(jiān)測(cè)范圍:1Å~99999Å,分辨率1Å;速率監(jiān)測(cè)范圍:0.1Å~99.9Å /s,分辨率0.1Å;



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