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高分辨率三維顯微CL

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高分辨率三維顯微CL

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X射線事業(yè)部在*X射線探測(cè)器研制、CT圖像重建軟件研發(fā)方面具有很強(qiáng)的研發(fā)實(shí)力,牽頭國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃重大儀器專項(xiàng)1項(xiàng)和北京市科委項(xiàng)目1項(xiàng)。事業(yè)部面向半導(dǎo)體封裝檢測(cè)、電子產(chǎn)品質(zhì)量控制、智能制造、生物醫(yī)學(xué)研究、材料研究、文物保護(hù)研究和安全檢查等領(lǐng)域需求開(kāi)發(fā)了多種解決方案,研制的CT成像設(shè)備已形成了完整的產(chǎn)品系列。 
        核安全事業(yè)部依托國(guó)家*重大儀器開(kāi)發(fā)專項(xiàng)項(xiàng)目“分布式動(dòng)態(tài)放射性探測(cè)成像系統(tǒng)”,將項(xiàng)目中的核成像系列產(chǎn)品、核素系列產(chǎn)品、輻射環(huán)境監(jiān)測(cè)系列產(chǎn)品、全方向定位產(chǎn)品進(jìn)行產(chǎn)業(yè)化實(shí)施。形成了核成像、核素識(shí)別、劑量?jī)x表、輻射環(huán)境監(jiān)測(cè)、通道式輻射定位、大型復(fù)雜場(chǎng)景輻射巡檢、劑量?jī)x表智能管理系統(tǒng)等系列三十余種產(chǎn)品,*了核探測(cè)設(shè)備國(guó)產(chǎn)化的空白。

電子產(chǎn)品質(zhì)量控制、智能制造、生物醫(yī)學(xué)研究、材料研究、

產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 面議

產(chǎn)品概要

高分辨率三維顯微CL(Computed Laminography)系統(tǒng)(3D Micro-CL),采用傾斜掃描方式解決了傳統(tǒng)CT無(wú)法對(duì)板狀物體進(jìn)行高分辨率掃描成像的問(wèn)題,具有自由度高、放大比可調(diào)、大視野、高分辨、快速重建等優(yōu)點(diǎn),可用于芯片封裝、電路板、板狀化石等物體的2D/3D無(wú)損檢測(cè)。高分辨率三維顯微CL可應(yīng)用于電子信息、航空航天等領(lǐng)域。

技術(shù)參數(shù)

檢測(cè)尺寸

330mm × 330mm
掃描模式

二維透視成像(DR)

三維斷層掃描(CL)

能量范圍40 – 160 kV
空間分辨率

二維透視成像(10%MTF-229lp/mm)

三維斷層成像(優(yōu)于10μm)

樣本類型芯片、化石、電路板、材料

產(chǎn)品的特點(diǎn)

 

大視野拼接成像

GPU加速重建

輻射自屏蔽室、安全聯(lián)鎖

氣孔率計(jì)算功能

 

 

 



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