Trion Orion HDCVD Trion Orion HDCVD高密度化學氣相沉積系統(tǒng)
具體成交價以合同協(xié)議為準
- 公司名稱 德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司
- 品牌
- 型號 Trion Orion HDCVD
- 產地 美國
- 廠商性質 生產廠家
- 更新時間 2019/1/15 17:32:51
- 訪問次數 1306
產品標簽
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產地類別 | 進口 |
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Orion HDCVD 高密度氣相化學沉積系統(tǒng)采用高密度的化學氣相沉積技術,在惰性氣體進入口安裝感應線圈,周圍布置陶瓷管。射頻創(chuàng)建等離子體,通過氣體環(huán)在襯底表面附近引入揮發(fā)性氣體。當惰性氣體與揮發(fā)性物質結合時,會發(fā)生化學反應,然后在襯底表面沉積一層薄膜.
該技術不需要將襯底加熱到典型的PECVD溫度,并且該方法非常適合沉積在有機物、柔性襯底和其它具有溫度限制的表面上。
射頻可通過Chuck改變薄膜性能。
該系統(tǒng)可以升級傳送Loadlock,或添加到集群平臺Cluster。
該系統(tǒng)可以升級傳送Loadlock,或添加到集群平臺Cluster。