IG2離子源-超高真空
- 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2024/8/28 7:56:02
- 訪問次數(shù) 1448
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光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量),氣溶膠設(shè)備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,濾料測試系統(tǒng)
產(chǎn)地類別 | 進口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子,電氣 |
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IG2離子源-超高真空
典型應(yīng)用是氬離子濺射清洗表面(中科院物理所配置多套IG2型離子源)
濺射清洗 /表面準備,用于表面科學(xué), MBE ,高真空濺射過程
離子輔助沉積
離子束濺射鍍膜
反應(yīng)離子刻蝕
后排離子源與控制器
RBD儀器的離子源包裝是在UHV條件下切割樣品的理想溶液。IG2離子源包裝包括模型04-165 2 KV BBV離子源和模型32-165離子源控制。這些標準可與PIP 04-161和04-162離子交換和PHIP 20-045控制,相應(yīng)地互換。
1401型離子槍非常適合用于表面化學(xué)實驗,如用螺旋鉆和XPS制備樣品和深度剖面。它可以與大多數(shù)惰性氣體一起使用。
1407型離子槍在電子碰撞電離離子槍中具有雙等離子管性能。利用光學(xué)柱中可變光闌,可以獲得大范圍的光束電流和光斑尺寸。當光束能量為5 kev時,光束電流可從2 uA調(diào)整為20 um直徑的光斑,從20 uA調(diào)整為100 um直徑的光斑。
1402型離子槍的特點是光束能量非常低時的遠光電流。它還可以在高光束能量(高達3 kev)下運行,以提供額外的深度輪廓和樣品清洗能力。
IG2離子源-超高真空
3KV離子源
RBD目前提供了一個3 KV離子源掃描裝置,其中包括電子電荷源、電源和電纜。設(shè)計為一個低的100次,3 KV離子源提供了一個寬10毫米口徑尺寸,并與所有惰性Gasses兼容,不需要微分泵。
該包包括離子源、電子控制單元、三色電流、開鎖、操作手動和一種防偽絲組裝。
高性價比