金屬有機化合物化學氣相沉積鍍膜設備

我們提供了一套完整的MOCVD，主要產(chǎn)品包括臺式研發(fā)型、中試型和生產(chǎn)型。其反應器的設計可以根據(jù)工藝的需要很容易提升到滿足大直徑晶片生產(chǎn)的需要。我們也能為客戶設計以滿足客戶特殊工藝和應用的需要。系統(tǒng)部件包括：反應器、氣體傳輸系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)和尾氣處理系統(tǒng).
應用方向：氧化物、氮化物、碳化物、硫族（元素）化物、半導體等。
提供適用不同材料研究需要的反應器：
透明導體氧化物（TCO）應用于LCD、太陽能電池、透明加熱器、電極、LED、OLED等方面包括：P型ZnO, ITO, SrCuO,MgAlO,SrRuOm等MOCVD系統(tǒng)；
MEMS & MOEMs包括：PZT, ZrO, NbO,LiNbO, TiO2，SiO2，PbMgO, CMO，Ta2O5等MOCVD系統(tǒng)；金屬有機金屬有機化合物化學氣相沉積鍍膜設備
儲存器 (DRAM & NVRAM)介電/鈍化材料應用于柵極、介電層、鐵電、高頻設備、鈍化、保護層等，包括：BST，PZT, SBT, CMO, BLT，Hf(Si)O, Ta2O5,，Zr(Si)O,Al2O3, MgO等MOCVD系統(tǒng)；
波導, 光電, WDMs. MOEMS 等材料，包括：YBCO, PZT, ZnO, ZnSiO:Mn, GaN，SiC, Al, W, Cn等MOCVD系統(tǒng)；
其他材料如：超導、氮化物、氧化物、磁性材料、包括：YBCO, PZT, ZnO, ZnSiO:Mn, GaN，SiC, Al, W, Cn等MOCVD系統(tǒng)；
金屬及合金, 氧化物, 氮化物, III-V, II-VI,...；
半導體: SiO2, HfO2, Ta2O5, Cu, TiN, TaN, ...；
氮化物及合金: GaN, AlN, GaAs, GaAsN...；
高介電材料:SrTiO3, BaTiO3, Ba(1-x)SrxTiO3 (BST)...；
鐵電材料: SBT, SBTN, PLZT, PZT,…；
超導材料:YBCO, Bi-2223, Bi-2212, Tl-1223, …；
壓電材料: (Pb, Sr)(Zr,Ti)O3, 改性鈦酸鉛...；
金屬:Pt, Cu,...；
巨磁阻材料...；
熱涂層, 阻擋層, 機械涂層, 光學材料...。


我們提供了從桌面型反應器（針對研究和提高的需要）到自動化生產(chǎn)系統(tǒng)。出于材料變化種類的適應性和經(jīng)濟價格的考慮，對任何研究人員來說桌面型反應器是最合適的選擇，而且也極容易升級為量產(chǎn)型。
科研型MOCVD設備，包含液體直接注入ALD工藝，同一腔室完成沉積和退火。
-更低的設備及使用成本、更少的前驅(qū)體源使用、更小的腔體尺寸、跟高的薄膜沉積品質(zhì)！
-非常適合高校及研究所科研使用！

儀器參數(shù)：
1/ 1~4英寸MOCVD系統(tǒng)；
2/ 專為滿足科研單位需求而設計；
3/ MOCVD系統(tǒng)可在不同基底上，以MOCVD方式，在固體、液體有機金屬基源上沉積氧化物、氮化物、金屬、III-V 和 II-VI膜層；
4/ MOCVD配有前驅(qū)體直接處理單元，可在大范圍內(nèi)使用MO源，用于外延材料的研發(fā)和制備；
5/ MOCVD腔室中的紅外燈加熱系統(tǒng)可實現(xiàn)在線退火工藝；

性能及特點：
1， 溫度范圍: 室溫至1200°C ；
2， 帶質(zhì)量流量控制器的氣體混合性能；
3， 真空范圍: ~ 10-3 Torr，可選配高真空；
4， 選配手套箱；
5， 已被客戶廣泛接受
6， 堅固耐用
7， 可靠性高
8， 良好的可重復性
9， 經(jīng)濟適用