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真空卷繞晶化設備

具體成交價以合同協(xié)議為準

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


公司名稱(現(xiàn)用名):北京維意真空技術應用有限責任公司
公司名稱(曾用名):北京科立方真空技術應用有限公司
覆蓋區(qū)域:北京、天津、河北

 

       北京維意真空技術應用有限責任公司,原名北京科立方真空技術應用有限公司,創(chuàng)立于2013年,位于中國·首都北京密云經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū),主體經(jīng)營分為真空配件銷售、真空設備定制、淺藍納米科技三個部分,是北京從事真空產(chǎn)品設計、制造、銷售、維修、保養(yǎng)于一體的專業(yè)性的公司,公司擁有一支專業(yè)、優(yōu)秀的產(chǎn)品技術工程師和維修技術工程師,具有豐富的行業(yè)經(jīng)驗,同時還與北京工業(yè)大學聯(lián)合研發(fā)等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng),與北京交通大學聯(lián)合研發(fā)原子層沉積系統(tǒng),滿足高校、研究所的教學、科研使用,同時減少相關進口設備的*,并力爭創(chuàng)造外匯,打出中國創(chuàng)造的品牌!  


       我們的客戶遍布北京各高校和研究院所、部分*單位和電力試驗所、各級的材料、物理、化學、納米等研究領域*的實驗室,期待您就是我們的下一位客戶、朋友!

 

       您的滿意微笑是我們一直努力追求的經(jīng)營目標!
       技術創(chuàng)新、業(yè)務專業(yè)、服務誠信是我們一直遵循的經(jīng)營理念!

 

       我們熱誠歡迎國內外*的儀器制造商及科學工作者與我們聯(lián)系開展各層面的合作,打造成真空系統(tǒng)產(chǎn)品、等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)和原子層沉積系統(tǒng)供應商。

ALD設備,PECVD設備

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應用領域 電子,冶金

主要技術規(guī)范
1、真空室內腔尺寸:寬×高×深:1950×1050×750(mm)
2、極限真空:1.3×10-4Pa(空載時)
3、抽氣時間:從大氣到9.7×10-4Pa≤50min
4、升壓率:≤5Pa/h。
5、真空測量:雙熱偶電離復合真空計1臺,熱偶規(guī)2支,大氣壓-1Pa;
電離規(guī)2支,10Pa-10-5Pa。
6、可鍍卷材:zui大幅寬:150mm,zui大卷徑:φ=400mm
7、卷繞速度:0.1-10mm/min
8、加熱器:
加熱器高功率:IGBT電源,35KW(可根據(jù)用戶要求配置)
數(shù)量:2個
加熱區(qū)域:控溫精度1℃,溫度均勻性3℃
9、氣氛控制:3臺D07—7B/ZM型氣體質量流量計,
10、真空系統(tǒng):由脂潤滑分子泵,前級機械泵,羅茨泵,電磁氣動真
空閥門,真空管道組成。
11、冷卻水:循環(huán)冷卻水機。
去離子水電導率:小于50μ?S /cm
壓力:0.1~0.25MPa,??流量:約10T/h,水溫<25℃
16、總功率:三相四線,380V,50HZ,80KV。
17、電氣控制系統(tǒng)一套,主要元器件均為施耐德品牌。
18、總控系統(tǒng):PLC控制,互鎖設定,觸摸屏顯示(可根據(jù)要求定制)。



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