Fischer X-RAY XUV773 X射線熒光鍍層測厚儀

FISCHERSCOPE X-RAY XUV儀器配有一個可抽真空的大型測量箱。其所裝備的大面積硅漂移探測器能夠探測低至1 keV的熒光輻射能量，從而能夠有效地測量元素Na、Mg以及元素Zn、Cu、Ni的L輻射。大孔徑準直器的使用大幅提高了信號計數率，使儀器可以達到很小的重復精度和很低的測量下限。XUV非常適合測量很薄的鍍層和痕量分析。

        采用不同的準直器和基本濾片組合，能夠保證每一次的測量都在*佳的條件下完成。在測量的同時，可以直觀地查看測量點的影像。儀器測量空間寬大，樣品放置便捷，配合可編程的XYZ軸工作臺，既適合測量平面、大型板材類樣品，也適合形狀復雜的樣品。并且使得連續(xù)測量分析鍍層厚度或元素分析也變得直觀而簡單。儀器配有一個激光定位點作為輔助定位裝置，進一步方便了樣品的快速定位基于儀器的通用設計以及真空測量箱所帶來的擴展的測量能力，使得FISCHERSCOPE X-RAY XUV不僅可用于研究和開發(fā)，也非常適合過程控制和實驗室使用。

主要特征：

    • 帶鈹窗口的微聚焦X射線銠管，可選鎢管和鉬管。*高工作條件：50 kV, 50W
    • X射線探測器采用珀爾帖致冷的硅漂移探測器
    • 準直器：4個，可自動切換，從直徑0.1mm到3mm
    • 基本濾片：6個，可自動切換
    • 可編程XYZ工作臺
    • 攝像頭用來查看基本射線軸向方向的測量位置?？潭染€經過校準，顯示實際測量點大小。
    • 可在真空，空氣或者氦氣的環(huán)境下工作

典型應用領域：

    • 測量輕元素
    • 測量超薄鍍層和痕量分析
    • 常規(guī)金屬分析鑒定
    • 非破壞式寶石分析
    • 太陽能光伏產業(yè)

應用實例：

種類、來源和真實性，是評估寶石價值的本質特征；而寶石材質的分析結果則是影響判斷的決定性因素。通常，寶石的主要成份是鋁和硅的氧化物，還會伴隨有鎂和鈉等元素。另外， Cr、Fe、Ga等微量元素也是很重要的。XUV可以分析所有必要元素的光譜圖。在多個領域的應用中，非常薄的Al鍍層、Si鍍層、氧化鋁鍍層和氧化硅鍍層正在變得原來越重要。在真空環(huán)境中鍍層厚度的測量結果有顯著的提高。使用XUV來測量這些鍍層，重復精度僅幾個納米

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