EMS 675X三靶濺射鍍膜儀(樣本制備）High Resolution, Large Sample Sputter Coater

    高分辨率，大樣品，鍍鉻或其它金屬

    EMS675X三靶濺射鍍膜儀（樣本制備）可用于8英寸（200mm）晶圓鍍膜。主機(jī)系統(tǒng)具有雙齒轉(zhuǎn)動樣品臺，可進(jìn)行漸進(jìn)的橢圓形轉(zhuǎn)動，這樣使得濺射沉積更均勻。

EMS675X三靶濺射鍍膜儀(樣本制備）系統(tǒng)裝有磁電管靶可增加濺射效率，它使用低電壓，可得到薄而精細(xì)的涂層。在EMS675X中放置了三個靶面，可鍍非常大直徑的樣品，加上旋轉(zhuǎn)樣品臺，保證了均勻沉積。這種方式不需要特殊的靶面，而用標(biāo)準(zhǔn)靶即可。多靶系統(tǒng)在半導(dǎo)體晶圓工業(yè)尤為適用。它使用渦輪分子泵，前級為旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵。集成的儀器面板和即插即用的電子學(xué)zui大的“up-time”，還有用戶友好設(shè)計，保證了多用戶系統(tǒng)的應(yīng)用。

可預(yù)設(shè)濺射參數(shù)，包括氣體放氣電磁閥。獨(dú)立的真空泵系統(tǒng)由儀器自動控制。它可用金作為濺射靶材，在需要預(yù)清洗或去除氧化層時，也可選用其它靶材，如鉻靶。

閘門作為標(biāo)準(zhǔn)配置，這樣在維持真空時即可進(jìn)行濺射清潔和濺射循環(huán)。

特點(diǎn):

• 配置三個靶面
• 渦輪分子泵抽氣系統(tǒng)
• 全自動控制
• Peltier冷卻濺射頭
• 精細(xì)涂層（0.5nm Cr粒子）
• 可傾斜的特殊旋轉(zhuǎn)臺作為標(biāo)準(zhǔn)配置
• 薄膜沉積（典型為5nm）
• 直徑為300mm腔室
• 可選雙濺射頭

優(yōu)點(diǎn):

• 可對大樣品進(jìn)行鍍膜，如：8英寸晶圓
• 可濺射易氧化金屬的精細(xì)顆粒，如：鉻或銥
• 易操作
• 無需水冷卻
• 超高分辨率，可復(fù)制涂層
• 適應(yīng)各種樣品
• 重復(fù)膜厚沉積
• 樣品容易裝載和卸載，包括8英寸晶圓
• 不需要打開真空即可進(jìn)行兩種金屬順序涂層

儀器參數(shù)：

儀器訂購信息：