MXGH1200-PECVD 等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)
- 公司名稱 河南泰洪升儀器設備有限公司
- 品牌
- 型號 MXGH1200-PECVD
- 產地
- 廠商性質 生產廠家
- 更新時間 2017/1/3 12:43:04
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等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)等此款設備配有Plasma實現等離子增強，滑軌式設計在操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下，得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調裝置，可準確的控制反應腔體內部的氣體壓力，帶刻度的調節(jié)閥對于做低壓CVD非常簡單實用，工藝重復性好，對于石墨烯生長工藝非常合適，也同樣適用于要求快速升降溫的CVD實驗。
等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)主要功能和特點：
1、利用輝光放電產生等離子體電子激活氣相；
2、提高了氣相反應的沉積速率、成膜質量；
3、可通過調整射頻電源頻率來控制沉積速率；
4、能廣泛用于：石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生長。
技術參數
滑軌管式爐技術參數 | |||||
| 石英管尺寸 | L1400mm Φ（60、80、100） | |||
| 加熱元件 | 摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲 | |||
| 測溫元件 | K型熱電偶 | |||
| 加熱區(qū)長度 | 410mm | |||
| 恒溫區(qū)長度 | 200mm | |||
| 工作溫度 | ≤1100℃ | |||
| 控溫模式 | 模糊PID控制和自整定調節(jié)，智能化30段可編程控制，具有超溫和斷偶報警功能 | |||
| 控溫精度 | ±1℃ | |||
| 升溫速率 | ≤20℃/min | |||
| 電功率 | AC220V/50HZ/3KW | |||
質量供氣系統(tǒng)技術參數 | |||||
| 外形尺寸 | 600x600x600mm | |||
| 標準量程 | 50sccm（CH4）、200sccm（H2）、500sccm（Ar、N2）； | |||
| 壓力表測量范圍 | -0.1Mpa～0.15Mpa | |||
| 極限壓力 | 3MPa | |||
| 針閥 | 316不銹鋼 | |||
| 截止閥 | Φ6mm 316不銹鋼針閥 | |||
| 電功率 | AC220V/50HZ/20W | |||
| 響應時間 | 氣特性：1～4 Sec，電特性：10 Sec | |||
| 準確度 | ±1.5% | |||
| 線性 | ±0.5～1.5% | |||
| 重復精度 | ±0.2% | |||
| 接口 | Φ6,1/4'' | |||
真空系統(tǒng)技術參數 | |||||
| 外型尺寸 | 600×600×600mm | |||
| 工作電電壓 | 220V±10% 50~60HZ | |||
| 功率 | 400W | |||
| 抽氣速率 | 4L\s | |||
| 極限真空 | 4X10-2Pa | |||
| 實驗真空度 | 1.0X10-1Pa | |||
| 容油量 | 1.1L | |||
| 進氣口口徑 | KF25 | |||
| 排氣口口徑 | KF25 | |||
| 轉速 | 1450rpm | |||
射頻電源 | |||||
| 信號頻率 | 13.56 MHz±0.005% | |||
| 功率輸出范圍 | 3W-300W 5W-500W可選 | |||
| zui大反射功率 | 200W | |||
| 射頻輸出接口 | 50 Ω, N-type, female | |||
| 功率穩(wěn)定度 | ±0.1% | |||
| 諧波分量 | ≤-50dbc | |||
| 供電電壓 | 單相交流（187V-253V） 頻率50/60HZ | |||
| 整機效率 | >=70% | |||
| 功率因素 | >=90% | |||
| 冷卻方式 | 強制風冷 | |||
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