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IRLC激光聚焦顯微鏡

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西努光學(xué)創(chuàng)建于2003 年,主營工業(yè)顯微鏡及制樣設(shè)備、鏡片測定設(shè)備,高速攝像系統(tǒng)、工業(yè)內(nèi)窺鏡、機(jī)器視覺等工業(yè)及科研應(yīng)用的檢測設(shè)備及系統(tǒng)集成。
西努光學(xué)秉承“以光學(xué)為核心,為客戶提供解決方案”的經(jīng)驗(yàn)思路,經(jīng)過16年的努力,成為眾多企業(yè)、高校科研單位提供各種專業(yè)化的光學(xué)系統(tǒng)解決方案。并于2012 年導(dǎo)入SAP 管理系統(tǒng),通過系統(tǒng)資源整合,為客戶提供更優(yōu)質(zhì)、快捷的專業(yè)化服務(wù)。
2016 年,我們積極引進(jìn)檢測設(shè)備的同時導(dǎo)入制樣等配套設(shè)備以豐富我們實(shí)驗(yàn)室平臺,以更好的為客戶提供現(xiàn)場體驗(yàn),從微米到納米滿足客戶從制樣到結(jié)果分析的一站式體驗(yàn)服務(wù)。

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產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 電子

多層檢測

IRLC激光聚焦顯微鏡由近紅外激光和掃描共聚焦組合而成的IRLC有著諸多優(yōu)勢。首先便是具備了對薄晶片的多層高分辨率圖像的采集能力;同時,IRLC具備更深的樣品穿透能力、更高的分辨率和更快的圖像采集速度。

近紅外優(yōu)化光路

系統(tǒng)包含了全套Olympus近紅外長工作距離物鏡。這組物鏡專為硅晶圓的內(nèi)部結(jié)構(gòu)檢測而設(shè)計,采用優(yōu)化的近紅外光學(xué)系統(tǒng),并配備的校正環(huán)以適應(yīng)不同后面的硅片或玻璃表面。

一鍵雙視野

IRLC包含一組可見光彩色成像系統(tǒng)和一組近紅外共聚焦系統(tǒng)。這種搭配可對樣品表面和底層(*深達(dá)800μm)同時成像。

由于采用了ATF6/0AA/ZAA技術(shù)(即實(shí)時快速自動聚焦技術(shù)),IRLC實(shí)現(xiàn)了真正意義上的實(shí)時聚焦-不管觀察方式和樣品表面狀況如何變化,視野內(nèi)持續(xù)聚焦?fàn)顟B(tài)。

IRLC激光聚焦顯微鏡簡潔的軟件界面

功能完善、操作簡單,直觀的軟件界面設(shè)計旨在提高工作效率,簡化檢測流程?;静倏毓δ馨▽φ彰?、放大倍率、XYZ控制以及對焦補(bǔ)償?shù)膮?shù)調(diào)整。 載物臺移動可通過軟件操控、手柄操控、或者簡單地點(diǎn)擊實(shí)時畫面來完成。

高級功能

線性XY “pointto point” 和 “pointto multipoint” 測量及高級圖像采集選項可實(shí)現(xiàn)均幀、AveragedImage、Z軸序列采集、以及在兩點(diǎn)間圖像序列采集。

自動檢測

集成了全電動控制和自動聚焦的IRLC,配合全自動軟件可實(shí)現(xiàn)全自動檢測流程,并可在同*程內(nèi)對多個樣品進(jìn)行檢測。

 

CIS(CMOS成像芯片)

很多CIS模塊已經(jīng)在像素上方加裝了保護(hù)面板和彩色濾光片,給檢測帶來很多困難。使用IRLC即可輕松看到表面之下的結(jié)構(gòu)特征。

5X BF (Front)

5X IRLC (Front)

20X IRLC (Front)

50X IRLC (Front)

100X IRLC (Front)

 

高摻雜半導(dǎo)體

從正面穿透金屬基板觀察是不可能實(shí)現(xiàn)的;使用IRLC從背面穿透300μm高摻雜硅可清晰觀察到該區(qū)域下的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。

10XBF (Front)

20XIRLC (Back)

50XIRLC (Back)

100XIRLC (Back)

低摻雜半導(dǎo)體

使用IRLC從背面穿透800μm低摻雜硅,刻蝕圖案清晰可見.

5X BF (Front)

20XIRLC (Back)

50X IRLC (Back)

100X RLC (Back)

MEMS器件

僅使用明場觀察,表面細(xì)節(jié)清晰可見;使用IRLC,表面之下的MEMs結(jié)構(gòu)清晰可見。

5X BF (Front)

5X IRLC (Front)

10XIRLC (Front)

20XIRLC (Front)

 



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