Elaps 電化學(xué)表面成像及圖案化處理系統(tǒng)
- 公司名稱 江蘇澤源生物科技有限公司
- 品牌
- 型號(hào) Elaps
- 產(chǎn)地 江蘇
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2016/10/29 14:59:35
- 訪問(wèn)次數(shù) 1508
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勻膠機(jī),烤膠機(jī),電化學(xué)工作站,,電解雙噴減薄儀,超聲波清洗器,低溫恒溫槽,低溫冷卻液循環(huán)泵,雙層大容量光照搖床,臺(tái)式氣浴搖床
電化學(xué)表面成像及圖案化處理系統(tǒng),由精密空間定位裝置與帶有微電流檢測(cè)的雙恒電位儀以及相關(guān)的應(yīng)用軟件組成??蓱?yīng)用于界面電子及離子轉(zhuǎn)移、化學(xué)及生物傳感、離子組學(xué)、細(xì)胞成像、藥物釋放、界面相轉(zhuǎn)移催化、生物膜模擬、界面有機(jī)合成、微納米制備及表面微加工等研究及應(yīng)用領(lǐng)域中。
• 探針漸近、探針掃描等多種工作模式
• 電化學(xué)表面成像
• 表面圖案化處理功能
• 雙恒電位儀功能
• 內(nèi)置多種電化學(xué)方法
• 交換工作電極功能
• 皮安級(jí)微電流檢測(cè)
• 空間定位分辨率低至1.9nm
• 第二工作電極開(kāi)路電位模式
• 紫外可見(jiàn)光纖光譜聯(lián)用模式
• 帶有USB接口的光學(xué)顯微鏡
機(jī)械性能 步進(jìn)電機(jī) 壓電晶體
移動(dòng)方向 X/Y/Z X/Y/Z
移動(dòng)范圍 50×50×50mm 95×95×95μm
定位分辨率 20nm 1.9nm
重復(fù)定位精度 2μm 30nm
zui高移動(dòng)速度 2mm/s NA
響應(yīng)時(shí)間 NA 25ms
電學(xué)性能 參 數(shù)
電位控制范圍 ±10V
槽壓 ±12V
zui大輸出電流 ±250mA
電流測(cè)量范圍 10pA ~ 250mA共11個(gè)量程
電流測(cè)量分辨率 <10fA
電位控制分辨率 0.1mV@±3.2V
數(shù)據(jù)采集速率 1MHz
線性掃描速度 1μV/s ~ 5000V/s
電位脈沖寬度 0.00001s ~ 1000s
低通濾波器截止頻率 0.1Hz ~ 100KHz
參比電極輸入阻抗 >1000GΩ
第二電極電位控制范圍 ±10V
第二電極zui大輸出電流 ±250mA
第二電極電流測(cè)量范圍 10pA ~ 250mA共11個(gè)量程
第二電極電流分辨率 <10fA
第二電極數(shù)據(jù)采集速率 1MHz
實(shí)驗(yàn)方法
探針漸近曲線(PAC)*、探針掃描曲線(PSCA、PSCP、PSCCC)*、電化學(xué)表面成像(ESIA、ESIP、ESICC)*、表面圖案化處理(SPC)*、循環(huán)伏安法(CV)*、線性掃描伏安法(LSV)*、階梯波伏安法(SV)*、塔菲爾曲線(TAFEL)*、開(kāi)路電壓-時(shí)間曲線(OCPT)、計(jì)時(shí)電流法(CA)*、計(jì)時(shí)電量法(CC)、差脈沖伏安法(DPV)*、常規(guī)脈沖伏安法(NPV)*、差分常規(guī)脈沖伏安法(DNPV)*、方波伏安法(SWV)*、交流(含相敏)伏安法(ACV)、二次諧波交流(相敏)伏安法(SHACV)、電流-時(shí)間曲線(I-t)*、差分脈沖電流檢測(cè)(DPA)、雙差分脈沖電流檢測(cè)(DDPA)、三脈沖電流檢測(cè)(TPA)、積分脈沖電流檢測(cè)(IPAD)、控制電位電解庫(kù)侖法(BE)、多電位階躍方法(MPS)*、交流阻抗測(cè)量(IMP)、交流阻抗-時(shí)間測(cè)量(IMPT)、交流阻抗-電位測(cè)量(IMPE)、計(jì)時(shí)電位法(CP)、電流掃描計(jì)時(shí)電位法(CPCR)、多電流階躍法(MCS)、電位溶出分析(PSA)、電化學(xué)噪聲測(cè)量(ECN)、任意電壓波形(AWV)*、可用于雙恒模式
北京泰諾鑫源科技有限公司(http://www.tenoyo。。com/)主要產(chǎn)品EasyCoater和SmartCoater系列勻膠機(jī)、烤膠機(jī)、提拉鍍膜機(jī)、電解雙噴減薄儀、低溫恒溫設(shè)備等。隨著生命科學(xué)行業(yè)的蓬勃發(fā)展,諾源儀器也將迎來(lái)新的機(jī)遇和挑戰(zhàn),我們將一如既往地向著目標(biāo)努力:致力于成為*的實(shí)驗(yàn)室集成供應(yīng)商。我司歡迎您的。
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