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WS-650-23NPPB 美國Laurell勻膠機650-23N

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科布公司是一家富有創(chuàng)新精神的化高科技公司,專業(yè)提供等離子清洗系統(tǒng)全套解決方案提供商。作為工業(yè)實驗室市場領(lǐng)域的,科布從事開發(fā)、設計、生產(chǎn)并營銷質(zhì)量可靠的、安全易用的技術(shù)產(chǎn)品及優(yōu)質(zhì)專業(yè)的服務,幫助客戶和合作伙伴取得成功。

光刻機,勻膠機,等離子清洗機,紫外臭氧清洗機,壓片機

美國Laurell勻膠機650-23N

勻膠機(英文名:Spin Coater)適合半導體硅片的勻膠鍍膜 
  
詳細介紹:勻膠機(英文名:Spin Coater& Spin Processor) 
  
行業(yè)俗稱:勻膠臺、勻膠機、旋涂儀、涂膠機、鍍膜機、涂層機

 

一、產(chǎn)品概述:

勻膠機WS-650Mz-23NPPB適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝,制版的表面涂覆。美國Laurell勻膠機具有穩(wěn)定的轉(zhuǎn)速和快速的啟動,可以保證半導體中膠厚度的*性和均勻性,這正是美國Laurell勻膠機650-23N的特點。

二、勻膠機工作原理:
 勻膠機WS-650Mz-23NPPBspin coater)的工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上,甩膠機常用于各種溶膠凝膠(Sol-Gel)實驗中的薄膜制作,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關(guān)。

三、勻膠機WS-650Mz-23NPPB主要性能指標:
 

1、腔體尺寸:9.5英寸 (241 毫米);

     2、Wafer芯片尺寸:10-150mm直徑的材料,方片125x125mm,小于10mm提供3mm的轉(zhuǎn)接托盤);

3、轉(zhuǎn)動速度:0-12,000rpm,

4、旋涂加速度:0-30000rpm/sec(空載);

5、馬達旋涂轉(zhuǎn)速:穩(wěn)定性能誤差 < ±1%;

6、轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)精度:<0.2rpm,重復性< 0.2rpm;

7、工藝時間設定:1-5999.9 sec/step   0.1 精度;

8、勻膠機材質(zhì):NPP天然聚丙烯材質(zhì),抗腐蝕性和抗化學物性,美觀大方;

9、高精度數(shù)碼控制器:PLC控制,設置點精度小于0.006%。

10、程序控制:可存儲20個程序段,每個程序段可以設置51步不同的速度狀態(tài);

11、分辨率:分辨率小于0.5轉(zhuǎn)/分,可重復性小于±0.5轉(zhuǎn)/分,美國國家標準技術(shù)研究院(NIST)認證過的,并且無需再校準!]
12、配套真空泵系統(tǒng):無油型 220~240伏交流,50/60赫茲;

13、配套分析軟件:SPIN3000操作分析軟件;

14、*水平測試儀;  

可選配置:

IND構(gòu)造為濕站系統(tǒng)設計,帶遠程控制;

OND構(gòu)造為手套箱系統(tǒng)設計,帶遠程控制;

UD自動滴膠裝置:UD-3帶倒吸裝置的多噴嘴可編程針筒,

EBR(Edge   Bead Remover):晶圓去邊,機械裝置;



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