HK-8100 稀土硅鎂分析等離子體光譜儀
參考價(jià) | ¥ 320000 |
訂貨量 | ≥1 件 |
- 公司名稱 北京華科易通分析儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 HK-8100
- 產(chǎn)地 北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2019/12/10 17:18:03
- 訪問次數(shù) 4371
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,石油,地礦,能源 |
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北京華科易通分析儀器有限公司,是電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀的專業(yè)制造廠商。它是集科研、生產(chǎn)、銷售、技術(shù)服務(wù)于一體的高科技企業(yè)。HK-8100型稀土硅鎂分析等離子體光譜儀,是我公司在現(xiàn)有技術(shù)的基礎(chǔ)上,吸收技術(shù)成果研制開發(fā)的產(chǎn)品。
稀土硅鎂分析等離子體光譜儀作為一種大型精密無機(jī)分析儀器,廣泛應(yīng)用于稀土分析、貴金屬分析、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、石油、化工等行業(yè),以及商檢、環(huán)保等部門和釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè),出色地完成從超微量到常量的定性或定量分析。
是集光、機(jī)、電、計(jì)算機(jī)、分析技術(shù)于一體的新技術(shù)產(chǎn)品,具有測試速度快、測量范圍寬、分析結(jié)果準(zhǔn)確、可靠等特點(diǎn)。由于采用了計(jì)算機(jī)技術(shù),儀器實(shí)現(xiàn)了高度智能化,從分析處理到數(shù)據(jù)采集等環(huán)節(jié)都達(dá)到了目前*水平,是一種十分理想的分析儀器。
公司以一批多年積累的技術(shù)成果和實(shí)力雄厚的科研隊(duì)伍為后盾,以其豐富的工作經(jīng)驗(yàn)和和完善熱情的服務(wù)為保障,竭誠為社會提供高精度、高靈敏度和高穩(wěn)定性的等離子體發(fā)射光譜儀產(chǎn)品。
主要特點(diǎn)
- 優(yōu)良的光學(xué)系統(tǒng),良好的控制系統(tǒng):保證定位準(zhǔn)確,信背比優(yōu)良;
- 采用進(jìn)口的關(guān)鍵部件:確保儀器的精確度和靈敏度;
- 極小的基體效應(yīng):99%的試樣不用分離基體;
- 測量范圍寬:超微量到常量的分析;
- 良好的測量精度:相對標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤1.50%;
- 穩(wěn)定性:相對標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤2.00% ;
- 分析速度快:每分鐘元素順序掃描zui快達(dá)20個(gè)以上;
- 分析元素之多:可分析72種金屬元素和部分非金屬元素;
- 檢出限低:ppb;
- 可做定性或定量分析;
- 便捷的分析軟件:基于Windows XP平臺下的第三代中文版或英文版操作軟件,使操作更加簡便容易,軟件無需安裝可直接使用,數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)提供多種功能,對輸出數(shù)據(jù)可任意選擇打印。
儀器組成及工作原理
HK-8100型等離子體發(fā)射光譜儀,是單、多元素順序測量的分析測試儀器。該儀器由掃描分光器、射頻發(fā)生器、試樣引入系統(tǒng)、光電轉(zhuǎn)換、控制系統(tǒng)、數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)、分析操作軟件組成。
等離子體是在三重同心石英炬管中產(chǎn)生。炬管內(nèi)分別以切向通入氬氣,炬管上部繞有紫銅負(fù)載線圈(內(nèi)通冷卻水)當(dāng)高頻發(fā)生器產(chǎn)生的高頻電流(工作頻率40.68MHz功率1kW左右)通過線圈時(shí),其周圍產(chǎn)生交變磁場,使少量氬氣電離產(chǎn)生電子和離子,在磁場作用下加速運(yùn)動與其它中性原子碰撞,產(chǎn)生更多的電子和離子,在炬管內(nèi)形成渦流,在電火花作用下形成等離子炬(即等離子體),這種等離子體溫度可達(dá)8000K以上。待測水溶液經(jīng)噴霧器形成氣溶膠進(jìn)入石英炬管中心通道。原子受到外界能量的作用下,使原子電離,即處于激發(fā)態(tài)的原子十分不穩(wěn)定。從較高能級躍遷到基態(tài),將釋放出能量。這種能量是以一定波長的電磁波的形式輻射出去。不同元素產(chǎn)生不同的特征光譜。這些特征光譜通過透鏡射到分光器中的光柵上,分光后的待測元素特征譜線光強(qiáng),通過計(jì)算由步進(jìn)電機(jī)轉(zhuǎn)動光柵傳動機(jī)構(gòu),準(zhǔn)確定位于出口狹縫處,光電倍增管將該譜線光強(qiáng)轉(zhuǎn)變?yōu)楣怆娏鳎俳?jīng)電路處理和V/F轉(zhuǎn)換后,由計(jì)算機(jī)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理,zui后由打印機(jī)打出分析結(jié)果。
主要技術(shù)指標(biāo)
掃描范圍 :光柵3600條刻線/mm,掃描范圍(190~500)nm
光柵2400條刻線/mm,掃描范圍(190~800)nm
波長示值誤差:±0.03nm,重復(fù)性≤0.005nm。
zui小光譜帶寬:Mn 257.610nm,譜線峰半高寬≤0.008nm。
重復(fù)性:相對標(biāo)準(zhǔn)偏差 RSD≤1.50%
穩(wěn)定性:相對標(biāo)準(zhǔn)偏差 RSD≤2.00%