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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>光學儀器及設(shè)備>光學測量儀>橢偏儀>EMPro *型多入射角激光橢偏儀

EMPro *型多入射角激光橢偏儀

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 北京賽凡光電儀器有限公司
  • 品牌
  • 型號 EMPro
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2015/12/25 12:58:30
  • 訪問次數(shù) 675

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


   公司成立于2004年,在同行業(yè)中Z早獲得*,擁有多項,其中“太陽能電池測試系統(tǒng)”、“光譜儀”、“精密位移臺”三大系列產(chǎn)品被市科委、市*等5部門評為“北京市自主創(chuàng)新產(chǎn)品”,并列入政府采購目錄。公司于2009年9月取得ISO9001質(zhì)量體系認證。

賽凡擁有兩大核心技術(shù):光譜測試技術(shù),精密運動控制技術(shù)

     主要產(chǎn)品系列:太陽能電池光譜響應(yīng)/IPCE/QE測試儀,太陽能電池I/V性能測試儀,太陽模擬器,橢偏儀,CCD光電性能測試儀,熒光/拉曼/發(fā)射/透反吸/探測器光譜測試系統(tǒng),光柵光譜儀,CCD光譜儀,科研級光源,光電探測器,數(shù)據(jù)采集器,精密定位系統(tǒng),電動/手動精密位移臺,光具座,光學平臺等。

     公司自成立以來,始終秉持質(zhì)量*,滿足用戶的經(jīng)營理念,在注重提升自身研發(fā)能力的同時,和多家科研院所保持緊密合作關(guān)系,共同創(chuàng)建光電實驗室,保證產(chǎn)品的*性和適用性。其中太陽能光伏實驗室,為各類太陽能電池(單晶硅,多晶硅,薄膜電池,染料敏化電池等)的光譜響應(yīng)測試及膜厚控制提供了完整解決方案。

      我們始終如一,用心為您提供良好完整的解決方案,為您提供專業(yè)高效的技術(shù)支持,為您提供快速響應(yīng)的售后服務(wù),我們的追求就是讓您始終滿意,始終信任,始終選擇 !


單色儀,光源,太陽模擬器,太陽能電池測試系統(tǒng),平移臺,精密調(diào)整系統(tǒng),光學平臺

EMPro是針對研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的*型多入射角激光橢偏儀。

EMPro 可在單入射角度或多入射角度下進行高精度、高準確性測量??捎糜跍y量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k;也可用于同時測量塊狀材料 的折射率n和消光系數(shù)k;亦可用于實時測量快速變化的納米薄膜動態(tài)生長中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設(shè)計實現(xiàn)了納米薄膜的厚度測 量。

EMPro采用了量拓科技多項技術(shù)。

特點:

  • 原子層量級的*靈敏度

    *的采樣方法、高穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的制造工藝實現(xiàn)并保證了能夠測量原子層量級的極薄納米薄膜,膜厚精度達到0.01nm,折射率精度達到0.0001。

  • 百毫秒量級的快速測量

    水準的儀器設(shè)計,在保證*精度和準確度的同時,可在幾百毫秒內(nèi)快速完成一次測量,可滿足單原子膜層生長的實時測量。

  • 簡單方便的儀器操作

    用戶只需一個按鈕即可完成復雜的材料測量和分析過程,數(shù)據(jù)一鍵導出。豐富的模型庫、材料庫方便用戶進行高級測量設(shè)置。

應(yīng)用:

  • EMPro適合于高精度要求的科研和工業(yè)產(chǎn)品環(huán)境中的新品研發(fā)或質(zhì)量控制。
  • EMPro可用于測量單層或多層納米薄膜層構(gòu)樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數(shù)k;可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k;可用于實時測量快速變化的納米薄膜的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。
  • EMPro可應(yīng)用的納米薄膜領(lǐng)域包括:微電子、半導體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽電池、光學薄膜、生命科學、化學、電化學、磁介質(zhì)存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等??蓱?yīng)用的塊狀材料領(lǐng)域包括:固體(金屬、半導體、介質(zhì)等),或液體(純凈物或混合物)。

技術(shù)指標:

 

項目

技術(shù)指標

儀器型號

EMPro31

激光波長

632.8nm (He-Ne Laser)

膜厚測量重復性(1)

0.01nm (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)

折射率測量重復性(1)

1x10-4 (對于Si基底上100nm的SiO2膜層)

單次測量時間

與測量設(shè)置相關(guān),典型0.6s

結(jié)構(gòu)

PSCA(Δ在0°或180°附近時也具有*的準確度)

激光光束直徑

1mm

入射角度

40°-90°可手動調(diào)節(jié),步進5°

樣品方位調(diào)整

Z軸高度調(diào)節(jié):±6.5mm

二維俯仰調(diào)節(jié):±4°

樣品對準:光學自準直和顯微對準系統(tǒng)

樣品臺尺寸

平面樣品直徑可達Φ170mm

zui大的膜層范圍

透明薄膜可達4000nm

吸收薄膜則與材料性質(zhì)相關(guān)

zui大外形尺寸

887 x 332 x 552mm (入射角為90º時)

儀器重量(凈重)

25Kg

選配件

水平XY軸調(diào)節(jié)平移臺

真空吸附泵

軟件

ETEM軟件:

l 中英文界面可選;

l 多個預(yù)設(shè)項目供快捷操作使用;

l 單角度測量/多角度測量操作和數(shù)據(jù)擬合;

l 方便的數(shù)據(jù)顯示、編輯和輸出

l 豐富的模型和材料數(shù)據(jù)庫支持

 

   注:(1)測量重復性:是指對標準樣品上同一點、同一條件下連續(xù)測量25次所計算的標準差。

性能保證: 

  • 高穩(wěn)定性的He-Ne激光光源、*的采樣方法以及低噪聲探測技術(shù),保證了高穩(wěn)定性和高準確度
  • 高精度的光學自準直系統(tǒng),保證了快速、高精度的樣品方位對準
  • 穩(wěn)定的結(jié)構(gòu)設(shè)計、可靠的樣品方位對準,結(jié)合*的采樣技術(shù),保證了快速、穩(wěn)定測量
  • 分立式的多入射角選擇,可應(yīng)用于復雜樣品的折射率和厚度的測量
  • 一體化集成式的儀器結(jié)構(gòu)設(shè)計,使得系統(tǒng)操作簡單、整體穩(wěn)定性提高,并節(jié)省空間
  • 一鍵式軟件設(shè)計以及豐富的物理模型庫和材料數(shù)據(jù)庫,方便用戶使用


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