納米研磨機(jī)，進(jìn)口納米研磨機(jī)，德國(guó)是 是干磨的一種安全而高效的替代方案。 
干磨產(chǎn)生大量灰塵，從而需要配備適當(dāng)?shù)倪^(guò)濾系統(tǒng)。

的 

用轉(zhuǎn)子-定子裝置濕磨此類(lèi)物質(zhì)具有諸多好處：

· 研磨得到的細(xì)顆粒被直接融合到懸浮液中，因而從開(kāi)始就避免了灰塵的形成。

· 與干磨系統(tǒng)不同，被研磨的物質(zhì)保持在系統(tǒng)內(nèi)，從而大幅減少了損失。因此，濕磨非常適合有機(jī)化學(xué)品，尤其是優(yōu)質(zhì)物質(zhì)，或者有毒物質(zhì)的研磨。

· 相對(duì)干磨過(guò)程而言，濕磨的產(chǎn)品進(jìn)料和計(jì)量較容易。

濕磨被用于醫(yī)藥工業(yè)的許多應(yīng)用中，并且取得了良好的效果，因?yàn)樗浅＿m用于API（活性藥用成分）。 

IKN分散機(jī)可直接結(jié)合到物質(zhì)合成過(guò)程中。這使得濕磨過(guò)程與其他過(guò)程同時(shí)進(jìn)行，從而能夠刪除后續(xù)工步。除了節(jié)省時(shí)間以外，需要的系統(tǒng)數(shù)量和接觸產(chǎn)品的表面尺寸可大幅減少。管線(xiàn)式濕磨機(jī)非常適合于CIP或者SIP清潔。濕磨機(jī)的好處使其成為具有吸引力的投資產(chǎn)品。 

IKN濕磨機(jī)基于轉(zhuǎn)子-定子原理。IKN濕磨機(jī)的輸入剪切能大，可實(shí)現(xiàn)10 μm及以下粒度。IKN濕磨機(jī)能夠處理寬粘度范圍的產(chǎn)品。鑒于其處理能力，IKN濕磨機(jī)被用于諸多應(yīng)用，如織物涂料、漆、染紙顏料和潤(rùn)滑脂濕磨。 
 

的結(jié)構(gòu) 

由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿(mǎn)足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線(xiàn)速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

 的研磨分散效果 

影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

2 膠體磨磨頭頭的剪切速率  （越大，效果越好）

3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）

4  物料在研磨腔體的停留時(shí)間，研磨粉碎時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）

線(xiàn)速度的計(jì)算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

剪切速率 (s-1) =          v  速率 (m/s)  
                            g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線(xiàn)速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

的主要應(yīng)用 

  溶液中顆粒及脂肪球等超細(xì)破碎與均質(zhì)

          不相溶的固-液相懸浮物超細(xì)混合分散

               動(dòng)物和植物組織的超細(xì)破碎及漿化加工

                   不相溶的液-液相溶液包容性微細(xì)乳化

                         納米材料團(tuán)聚物的強(qiáng)力解聚與超細(xì)分散,

納米研磨的參數(shù)和型號(hào) 

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

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