CMD2000/4 實(shí)驗(yàn)室納米研磨機(jī)
參考價(jià) | ¥ 108900 |
訂貨量 | ≥1 |
- 公司名稱 上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司
- 品牌
- 型號(hào) CMD2000/4
- 產(chǎn)地 松江區(qū)陳春公路700號(hào)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2018/9/11 11:11:31
- 訪問(wèn)次數(shù) 624
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實(shí)驗(yàn)室分散機(jī),高剪切乳化機(jī),勻漿機(jī) 實(shí)驗(yàn)室膠體磨,高剪切乳化機(jī),管線式乳化機(jī)
實(shí)驗(yàn)室納米研磨機(jī)是 過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化納米的效果。
實(shí)驗(yàn)室納米研磨
研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎成小顆粒。
分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹(shù)脂等包覆住,以便達(dá)到顆粒*被分離(separating)、潤(rùn)濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩(wěn)定(stabilization)目的。
實(shí)驗(yàn)室納米研磨機(jī)的主要應(yīng)用在
動(dòng)物和植物組織的超細(xì)破碎及漿化加工
☆溶液中顆粒及脂肪球等超細(xì)破碎與均質(zhì)
☆ 可溶物(或互溶物)固體和液體加速溶解
☆ 不相溶的固-液相懸浮物超細(xì)混合分散
☆納米材料團(tuán)聚物的強(qiáng)力解聚與超細(xì)分散
上的結(jié)構(gòu) 及特點(diǎn)
磨產(chǎn)生大量灰塵,從而需要配備適當(dāng)?shù)倪^(guò)濾系統(tǒng)。當(dāng)研磨其粉塵與大氣氧氣混合會(huì)產(chǎn)生爆炸性混合物的物質(zhì)時(shí),這一點(diǎn)尤其重要。達(dá)到規(guī)定的安全等級(jí)通常需要精心設(shè)計(jì)的技術(shù)解決方案,如除塵和惰性氣體覆蓋系統(tǒng)。這些過(guò)濾系統(tǒng)的成本通常大大超出實(shí)際研磨機(jī)的成本。
用轉(zhuǎn)子-定子裝置濕磨此類物質(zhì)具有諸多好處:
- 研磨得到的細(xì)顆粒被直接融合到懸浮液中,因而從開(kāi)始就避免了灰塵的形成。
- 與干磨系統(tǒng)不同,被研磨的物質(zhì)保持在系統(tǒng)內(nèi),從而大幅減少了損失。因此,濕磨非常適合有機(jī)化學(xué)品,尤其是優(yōu)質(zhì)物質(zhì),或者有毒物質(zhì)的研磨。
- 相對(duì)干磨過(guò)程而言,濕磨的產(chǎn)品進(jìn)料和計(jì)量較容易。
濕磨被用于醫(yī)藥工業(yè)的許多應(yīng)用中,并且取得了良好的效果,因?yàn)樗浅_m用于API(活性藥用成分)。
IKN分散機(jī)可直接結(jié)合到物質(zhì)合成過(guò)程中。這使得濕磨過(guò)程與其他過(guò)程同時(shí)進(jìn)行,從而能夠刪除后續(xù)工步。除了節(jié)省時(shí)間以外,需要的系統(tǒng)數(shù)量和接觸產(chǎn)品的表面尺寸可大幅減少。管線式濕磨機(jī)非常適合于CIP或者SIP清潔。濕磨機(jī)的好處使其成為具有吸引力的投資產(chǎn)品。
IKN濕磨機(jī)基于轉(zhuǎn)子-定子原理。IKN濕磨機(jī)的輸入剪切能大,可實(shí)現(xiàn)10 μm及以下粒度。IKN濕磨機(jī)能夠處理寬粘度范圍的產(chǎn)品。鑒于其處理能力,IKN濕磨機(jī)被用于諸多應(yīng)用,如織物涂料、漆、染紙顏料和潤(rùn)滑脂濕磨。
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