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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>分析儀器>X射線儀器>X射線熒光光譜儀(XRF)>ELE700 X射線元素分析儀

ELE700 X射線元素分析儀

參考價 238000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


X射線RoHS儀、測厚儀技術(shù)轉(zhuǎn)讓


X射線熒光光譜儀,英文縮寫XRF。

XRF可用于分析物質(zhì)(元素)組成和鍍層厚度,具有便捷、快速、精度高等特點。

測含量精度能達PPM(百萬分之一)級,測厚度能達0.01um級。

其應(yīng)用主要有:

1)、RoHS、無鹵分析:電子、電器、五金、塑膠等制造業(yè)

2)、鍍層測厚分析:電鍍、電子器件、珠寶首飾等行業(yè)

3)、元素分析:貴金屬、考古、礦產(chǎn)、材料、水泥、鋼鐵、石油、環(huán)境等行業(yè)

   現(xiàn)成熟的研發(fā)、生產(chǎn)技術(shù)轉(zhuǎn)讓。

聯(lián)系人:楊先生

聯(lián)系電話:13632568748

qq:648048428

X射線熒光光譜儀,XRF,RoHS分析儀,鍍層測厚儀,鹵素/重金屬分析儀

[技術(shù)參數(shù)]
    探測器:                進口半導(dǎo)體SDD探測器,分辨率達130eV
    X光管:                  銠(W)靶,zui大電壓50kV,zui大電流1mA
                                    使用壽命長達5萬小時
    高壓電源:            精密X射線電源,zui高輸出電壓50kV
                                    穩(wěn)定度每8小時小于0.05%
    濾光片:                6組濾光片電動切換,有效降低背景干擾
    準(zhǔn)直器:                直徑8mm、5mm、2mm、1mm、0.5mm、0.2mm電動切換
    對焦系統(tǒng):            旋鈕視覺對焦
    樣品臺:                8個旋轉(zhuǎn)樣品盒
    樣品腔:                大氣、真空
    真空泵:                抽真空時間低于3分鐘
    樣品觀察:            高清晰彩色CCD射線頭
    X射線防護:         三重X射線防護(樣品腔、機殼、程序控制),
                                   低于GB16355-1996防輻射標(biāo)準(zhǔn)
    輸入電壓:           AC 220V/50HZ
    功耗:                   320W
    樣品腔尺寸:       660×400×135mm
    外型尺寸:           680×460×475mm
    重量:                   48Kg

[性能指標(biāo)]
    可測元素:                    鈉(Na)-鈾(U)
    同時可測元素:           36種
    分析物質(zhì)狀態(tài):           固態(tài)、粉末、液體
    含量分析范圍:           0.0001~*
    含量檢出限:               1ppm
    含量相對誤差:           小于5%
    zui小測量直徑:           2mm
    分析時間:                   300~600S

[功能特點]
    采用進口的SDD探測器,對超低含量元素、輕元素都能有效探測;
    自動安全的高壓防護電路設(shè)計;
    *的光路系統(tǒng),增大X射線強度,減少散射背景;
    8個可旋轉(zhuǎn)的樣品臺,一次抽真空分析8個樣品;
    高效的抽真空系統(tǒng),密閉的真空腔,滿足元素尤其是輕元素的高精度分析;
    緊密封閉的腔體設(shè)計、電路控制、機械控制三重X射線防護;
    靈活精準(zhǔn)的分析軟件,既可進行簡單、快速的物質(zhì)測試,滿足工業(yè)化生產(chǎn)需求,也
    可通過科學(xué)的參數(shù)配置滿足復(fù)雜、高精度的元素分析;
    采用了、復(fù)雜的X熒光分析算法,比任何同類軟件都要適應(yīng)各種復(fù)雜、多
    樣的物質(zhì)分析,解決了傳統(tǒng)X熒光分析必須依賴相同基體標(biāo)樣局限;
    對分析樣品的狀態(tài)、形狀、大小、厚度自動進行校正,減少因制樣不足而帶來的誤差。



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