納米氧化鉍研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

納米氧化鉍 Bi2O3是一種重要的功能材料,主要以A、B、C和R 4 種品型存在. 晶型不同, 應(yīng)用不同[1 ]. 氧化鉍的應(yīng)用非常廣泛, 它不僅是良好的有機合成催化劑、陶瓷著色劑、塑料阻燃劑、藥用收斂劑、玻璃添加劑、高折光玻璃和核工程玻璃制造以及核反應(yīng)堆的燃料, 而且是電子行業(yè)中一種重要的摻雜粉體材料[2～ 4 ]. 納米氧化鉍除了具有一般粒度(1～ 10 Lm )的氧化鉍粉末的性質(zhì)和用途外, 由于粒度更細, 可用于對粒度有特殊要求的場合[5 ] , 如無機顏料、光學(xué)材料、電子材料、超導(dǎo)材料、特殊功能陶瓷材料、陰極射線管內(nèi)壁涂料等. 

1.納米Bi2O3的制備方法

納米氧化鉍的制備方法有很多種, 大致分為固相法和液相法.

 固相法

固相法是比較傳統(tǒng)的粉末制備工藝, 用于粗顆粒微細化. 目前制備納米氧化鉍采用的是固相反應(yīng)法. 該法使2 種或幾種反應(yīng)性固體在室溫或低溫下混合、研磨或再煅燒, 得到所需納米粉體. 在固相反應(yīng)制備納米Bi2O3的過程中, 將Bi(NO3)3·5H2O和NaOH 混合均勻, 加入適量的分散劑, 充分研磨,再經(jīng)60 ℃恒溫水浴, 洗滌和真空干燥, 即得納米Bi2O3, 顆粒呈多邊形, 平均粒徑約60 nm.另有報道, 將Bi(NO3)3·5H2O與NaOH 或82羥基喹啉按1∶3 mo爾比混合后, 經(jīng)研磨, 洗滌及適當(dāng)?shù)臒崽幚? 也得到了粒徑分別為10 nm 和50 nm的納米級氧化鉍. 運用該法制備納米Bi2O3, 其制備工藝簡單、無污染或污染較少, 產(chǎn)率高, 能耗低, 但也存在著所得粉體易結(jié)團, 且粒度分布不均、易引入雜質(zhì)等問題. 然而, 對于粒度及純度要求不是很高的應(yīng)用領(lǐng)域, 該法不失為一種經(jīng)濟有效的工業(yè)化生產(chǎn)方法.

  液相法

液相法是目前實驗室和工業(yè)上應(yīng)用的制備納米粉體的方法. 按照反應(yīng)的不同原理和環(huán)境又可以分為沉淀法、水解法、噴霧法、水熱合成法、微乳液法、溶膠2凝膠法、冷凍干燥法及輻射化學(xué)合成等方法. 下面是目前已成功制備出納米氧化鉍的幾種液相制備方法.

沉淀法

沉淀法是在原料溶液中添加適當(dāng)?shù)某恋韯? 使得原料溶液中的陽離子形成各種形式的沉淀物, 然后再經(jīng)過洗滌、干燥、熱分解等工藝過程而得到納米粉料的方法. 納米氧化鉍的制備采用的是直接沉淀法, 例如, 采用弱堿液相沉淀2灼燒法, 通過添加一定比例的分散劑和有機絡(luò)合劑, 制得了純度高(99. 9%以上) , 粒度小, 均勻性好(平均粒度可達0. 02Lm ) 的納米氧化鉍[8 ]. 此法的優(yōu)點是, 通過溶液中的各種化學(xué)反應(yīng)可直接得到化學(xué)成分均一的超微粉體, 操作簡單, 生產(chǎn)成本低, 產(chǎn)物純度高. 該法也是目前工業(yè)化生產(chǎn)納米粉體的zui主要的應(yīng)用方法.

研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

納米氧化鉍研磨分散機應(yīng)用領(lǐng)域： 化學(xué)工業(yè)：油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,,炭黑等。 日用化工：牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等。 醫(yī)藥工業(yè)：各型糖漿、營養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮等。 建筑工業(yè)：各種涂料。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。 其它工業(yè)：塑料工業(yè)、紡織工業(yè)、造紙工業(yè)、煤炭浮選劑、納米材料等行業(yè)優(yōu)質(zhì)環(huán)保的生產(chǎn)需要 。

設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。