一、儀器整機(jī)主要性能參數(shù)：
1、波長(zhǎng)范圍：190～500nm（3600L/mm光柵）或190～800nm（2400L/mm光柵）；
2、分辨率： 0.006nm（3600L/mm光柵）或0.01nm（2400L/mm光柵）；
3、波長(zhǎng)示值誤差和重復(fù)性：波長(zhǎng)示值誤差≤0.02nm，重復(fù)性≤0.003nm；
4、掃描步距：0.0004nm；
5、重復(fù)性：RSD≤1.0%；
6、穩(wěn)定性：RSD≤1.5%；
7、檢出限：ppb級(jí)；
8、分析元素范圍：70余種金屬與非金屬元素；
9、線性范圍：7個(gè)數(shù)量級(jí)以上，且自吸效應(yīng)極低；
10、分析速度：每分鐘掃描25個(gè)元素以上；
11、等級(jí)證書：國(guó)家計(jì)量器具型式許可*（且遠(yuǎn)優(yōu)于*）。
12、必須有生產(chǎn)許可證：且規(guī)格要求滿足，測(cè)量范圍：190-500nm

二、儀器各部件詳細(xì)參數(shù)：
射頻發(fā)生器（RF）
（1）電路類型：電感反饋?zhàn)约な秸袷庪娐?、同軸電纜輸出、匹配調(diào)諧、取功率反饋信號(hào)，進(jìn)行閉環(huán)自動(dòng)控制；
（2）工作頻率：40.68MHz±0.05%；
（3）頻率穩(wěn)定性：≤0.05%；
（4）輸出功率：800～1200W；
（5）輸出功率穩(wěn)定性：≤0.2%；
（6）電磁場(chǎng)泄漏射強(qiáng)度：距機(jī)身20cm 處，電場(chǎng)強(qiáng)度：E＜2 V / m。
進(jìn)樣裝置
（1）輸出工作線圈：內(nèi)徑25mm、3匝；
（2）炬管：三同心型，外徑20mm的石英炬管；
（3）同軸型噴霧器：外徑6mm；
（4）雙筒型霧室：外徑35mm；
（5）觀測(cè)位置：縱向觀察高低和橫向觀察前后，可通過(guò)軟件直觀地調(diào)為*；
（6）氬氣流量計(jì)規(guī)格和載氣壓力表規(guī)格：
1、等離子氣流量計(jì)：(100～1000)L/h (1.6～16L/min)；
2、輔助氣流量計(jì)：(10～100)L/h (0.16～1.66L/min)；
3、載氣流量計(jì)：(10～100)L/h (0.16～1.66L/min)；
4、載氣穩(wěn)壓閥：(0～0.4Mpa)L/h；
5、冷卻水：水溫：15～25℃ 流量＞5L/min 水壓＞0.1Mpa 冷卻水：電阻率＞1MΩ。
分光器
（1）光路：Czerny－Turner；
（2）焦距：1000mm；
（3）光柵規(guī)格：離子刻蝕全息光柵；刻線密度3600L/mm，刻線面積：80×110mm(或刻線密度2400L/mm，刻線面積：80×110mm)；
（4）線色散率倒數(shù)：0.26nm/mm；
（5）分辨率：≤0.006nm全波段；
（6）掃描波長(zhǎng)范圍：190～500nm，3600L/mm光柵；190～800nm，2400 L/mm光柵；
（7）掃描步距：0.0004nm；
（8）出射、入射狹縫：20μm×25μm；
（9）反射鏡規(guī)格：（78×105×16）mm；
（10）透鏡：φ30，1:1成像；
（11）反射鏡規(guī)格：凹型；
（12）分光器恒溫裝置：26℃±1℃。
測(cè)光裝置
（1）光電倍增管規(guī)格：R212UH或R928；
（2）光電倍增管負(fù)高壓：-200～-1000V，自動(dòng)調(diào)節(jié)，穩(wěn)定性＜0.05%；
（3）光電倍增管電流測(cè)量范圍：10-4～10-12A；
（4）信號(hào)采集為V/F交換：1mV對(duì)應(yīng)100Hz；
（5）采樣電路：使用國(guó)外高精密度運(yùn)算放大器，使儀器的靈敏度和精確度大大提高；
（6）儀器數(shù)據(jù)采集：通過(guò)串口與電腦連接，從而簡(jiǎn)化了電路使連接更加便捷；
（7）測(cè)光方式：?jiǎn)巍⒍嘣仨樞驕y(cè)量。
操作軟件：
（1）操作系統(tǒng)：Windows XP 操作平臺(tái)；
（2）測(cè)定波長(zhǎng)數(shù)：任意選擇；
（3）分析速度：每分鐘25個(gè)元素以上；
（4）數(shù)據(jù)庫(kù)：譜線庫(kù)11萬(wàn)條以上；
（5）多窗口：在測(cè)量完一次結(jié)果后可以在顯示窗口保留上次結(jié)果同時(shí)、測(cè)量下一樣品；
（6）標(biāo)準(zhǔn)加入法：軟件要有標(biāo)準(zhǔn)加入法，以便在不同條件和應(yīng)用中下使用；
（7）分析模式：軟件默認(rèn)*分析模式，擁有儀器診斷、譜圖分析及幾種測(cè)量方式和幾種積分模式，單位任選等多種功能；
（8）歷史數(shù)據(jù)庫(kù)：在歷史數(shù)據(jù)庫(kù)中，可以同時(shí)可選擇性地打印想要打印的批次分析結(jié)果；
（9）數(shù)據(jù)輸出：軟件支持激光打印機(jī)打印分析結(jié)果。
 

ICP稀土元素檢測(cè)光譜儀應(yīng)用領(lǐng)域

稀土行業(yè)：稀土元素，分辨率高、檢出限低；
 

硅工業(yè)：磁性材料加工工業(yè)；
 

冶金工業(yè)：可分析對(duì)金屬材料質(zhì)量的影響很大AS、Bi、Pb、Sb、Sn等雜質(zhì)元素；
 

地質(zhì)、礦石分析：巖石樣品中鈣、鎂、鈉、鐵、銅、錳、鋅、鈷、鎳、金、銀等元素的測(cè)定。