臺式緊湊型等離子清洗機、小型等離子清洗機、微創(chuàng)傷納米級等離子清洗機、

GPC-102 A （替代 Harrick PDC-32G-2及PDC-FMG-2 PlasmaFlo、EQ-PDC-32G等離子清洗機）是一款臺式緊湊型等離子清洗機，具有體積僅為臺式烤箱大小、非破壞性的納米級清洗的特點，是一款特別適合實驗室、超凈間及研發(fā)機構的理想等離子清洗設備。等離子清洗機采用工藝氣體如大氣、氬氣、氮氣、氧氣或氦氣等作為清洗氣體介質，有效避免了因液體清洗劑對被清洗物帶來的殘留物污染及排放污染。GPC-102 A等離子清洗機配套一臺真空泵，工作時真空清洗艙內(nèi)中的等離子體與被清洗物的表面產(chǎn)生物理及化學反應，短暫的清洗就可以使有機污染物被*地清除，同時污染物被真空泵抽走，其清洗程度達到納米級。GPC-102 A等離子清洗機除了具有納米級清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能，等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性，而不改變材料的主要性能。對某些特殊用途的材料，在納米級清洗過程中GPC-102 A等離子清洗機的輝光放電不但加強了這些材料的粘附性、相容性和浸潤性， 并可消毒和殺菌，而無需考慮使用化學試劑如EtOH的排放和回收。

GPC-102 A等離子清洗機廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫(yī)學、微觀流體學等領域。

GPC-102 A等離子清洗機應用：

•  清洗光學器件、電子元件、半導體元件、激光器件、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗。
• 清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片、移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質。
• 清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
•  移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質，去除金屬材料表面的氧化物。
•  清洗半導體元件、印刷線路板、ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
•  清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。
•  高分子材料表面的修飾。
•  封裝領域中的清洗和改性，增強其粘附性，適用于直接封裝及粘和。
•  改善粘接光學元件、光纖、生物醫(yī)學材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
•  涂覆鍍膜領域中對玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性，使其活化，增強表面  粘附性、浸潤性、相容性，顯著提高涂覆鍍膜質量。
• 牙科領域中對鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預處理，增強其浸潤性和相容性。
•  醫(yī)用領域中修復學上移植物和生物材料表面的預處理，增強其浸潤性、粘附性和相容性。對醫(yī)療器械的消毒和殺菌。

GPC-102 A等離子清洗機技術特征：

• 緊湊型臺式等離子清洗設備，無射頻輻射危害，通過CE/EMC、CE/LVD、ROHS及FCC VOC認證。
• 射頻（RF）功率無極調(diào)節(jié)，可根據(jù)應用需要自由設置。
• 等離子清洗機整體適配與惰性氣體如大氣、氬氣、氮氣，活性氣體氧氣、氦氣、氫氣或混合氣體等工藝氣體使用。
• 適用于超凈間，無需配備其它附件即可使用。
• 全套工藝氣體管路采用特氟龍（teflon）材質及美國Swagelok高質316不銹鋼閥門。

GPC-102 A等離子清洗機具有如下優(yōu)勢：

• 具有性能穩(wěn)定、性價比高、操作簡便、使用成本極低、易于維護的特點。
• 可對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進行超清洗和改性。
• **地清除樣品表面的有機污染物。
• 無極功率處理、快速方便、清洗效率高。
• 綠色環(huán)保、不使用化學溶劑、對樣品和環(huán)境無二次污染。
• 在常溫條件下進行超清洗，對溫敏感樣品非破壞性處理。

GPC-102 A（替代 Harrick PDC-32G-2、EQ-PDC-32G等離子清洗機）等離子清洗機規(guī)格：

等離子清洗機真空反應艙尺寸：內(nèi)徑4.0英寸（102毫米）， 7.9英寸（200毫米） 深

等離子清洗機真空反應艙材質：純石英 （99.99%二氧化硅）

等離子清洗機輸入功率：150W（zui大）

等離子清洗機工作頻率：13.56MHz

等離子清洗機射頻功率：0W~30W 功率旋鈕連續(xù)調(diào)節(jié)

等離子清洗機重量：12公斤（約）

等離子清洗機尺寸：12.3英寸（312毫米）高x 16.8英寸（426毫米）寬 x 12.4英寸（315毫米）深

等離子清洗機配套托盤：純石英材質 規(guī)格

高配機型GPC-102 （替代 Harrick PDC-32G-2及PDC-FMG-2 PlasmaFlo、EQ-PDC-32G等離子清洗機）等離子清洗機規(guī)格：

等離子清洗機真空反應艙尺寸：內(nèi)徑4.0英寸（102毫米），7.9英寸（200毫米） 深

等離子清洗機真空反應艙材質：純石英 （99.99%二氧化硅）

等離子清洗機輸入功率：150W（zui大）

等離子清洗機工作頻率：13.56MHz

等離子清洗機射頻功率：0W~30W 功率旋鈕連續(xù)調(diào)節(jié)

等離子清洗機重量：16公斤（約）

等離子清洗機尺寸：12.3英寸（312毫米）高x 30英寸（762毫米）寬x 12.4英寸（315毫米）深

等離子清洗機真空計：熱偶式、數(shù)碼顯示、實時監(jiān)控真空反應艙內(nèi)壓力。

等離子清洗機流量氣體混合計：配備氣體流量控制系統(tǒng)，可以精密控制工藝氣體喂入及混合。

等離子清洗機配套托盤：純石英材質 規(guī)格

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