電化學(xué)綜合測試系統(tǒng)  電化學(xué)綜合測試儀  電化學(xué)交流阻抗測量儀     

型號:DL21-LK98C

系統(tǒng)性能與技術(shù)指標(biāo):

1、恒電位/恒電流

電位分辨率（）：0.1mV 電流靈敏度：≤50pA 時(shí)間分辨率（計(jì)時(shí)分析法）：0.1mS

2、動態(tài)參數(shù)調(diào)整

電勢控制范圍：－10～+10V 恒電流范圍：-500～+500mA 槽壓：-50V～+50V

電流檢測下限：≤50pA　　 電位增量：0.2mV～50V 脈沖寬度：0.0001～10Sec

方波頻率：0.001～100KHz 交流頻率：1～10KHz 二次諧波交流頻率：1～1KHz

采樣間隔：0.0001～60000Sec 平衡時(shí)間：0～60000Sec 濾波參數(shù)：50Hz～1000KHz

電勢信號掃描范圍：10.0V 掃描速度：0.1mV/S～5000V/S 脈沖間隔：0.0001～60000Sec

脈沖振幅：0.001～0.5V 方波幅度：0.001～0.5V 交流幅度：0.001～0.4V

電解時(shí)間：1～60000Sec 電沉積時(shí)間：0～60000Sec 低噪聲程控放大1～64倍

正弦波頻率：0.01mHz～100KHz 電流測量范圍：±100mA～±10nA （8個(gè)量程檔位）　

3、電流電位自動或手動濾波,自動或手動IR降補(bǔ)償,自動電位或手動電流調(diào)零。

4、主機(jī)自帶硬件交流阻抗體系,附帶交流阻抗軟件，及數(shù)據(jù)處理軟件件，可進(jìn)行測量及數(shù)據(jù)曲線的模擬該體系提供多個(gè)阻抗測量方法。

5、接口通訊方式：串行通訊。

由主機(jī)+系統(tǒng)軟件+電極系統(tǒng)+計(jì)算機(jī)+打印機(jī)組成電化學(xué)測試系統(tǒng)，該系統(tǒng)應(yīng)用于電化學(xué)機(jī)理研究、電極過程動力學(xué)研究、金屬腐蝕、生物學(xué)及冶金、制藥、環(huán)境生態(tài)學(xué)等領(lǐng)域的研究及阻抗測試。

LK98C微機(jī)電化學(xué)交流阻抗測量系統(tǒng)是在LK98BII微機(jī)電化學(xué)分析系統(tǒng)的基礎(chǔ)上開發(fā)的成果。它是在借鑒了國外同類儀器的技術(shù)和經(jīng)驗(yàn)的基礎(chǔ)上，由天津市蘭力科化學(xué)電子高新技術(shù)有限公司和重慶大學(xué)聯(lián)合研制的新一代的通用電化學(xué)交流阻抗測試儀器，可廣泛用于電極過程動力學(xué)、化學(xué)電源（電池）、金屬的腐蝕與防護(hù)、電鍍、電解等多種電化學(xué)過程或性能的測試。

性能特點(diǎn):

1、32位Windows中文界面

測試系統(tǒng)軟件采用32位Windows風(fēng)格的軟件界面，操作簡單直觀。實(shí)時(shí)觀察窗口、圖形數(shù)據(jù)一體化窗口的運(yùn)用，使得測試過程直觀高效。軟件在運(yùn)行中，對用戶的操作及數(shù)據(jù)的有效性、完整性進(jìn)行了充分地檢查，適時(shí)給出提示或警告。

2、數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)顯示

LK98C具有數(shù)據(jù)列表功能，能夠?qū)崟r(shí)顯示測量結(jié)果和打開文件的數(shù)據(jù)，確保你方便地查看實(shí)驗(yàn)結(jié)果。

3、強(qiáng)大的數(shù)據(jù)及圖形處理

LK98C微機(jī)電化學(xué)系統(tǒng)上位機(jī)軟件可直接處理80000個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)，并能以十余種圖形方式顯示測量結(jié)果（如阻抗復(fù)平面圖/Nyquist、Bode圖、Warburg阻抗圖），觀察實(shí)驗(yàn)結(jié)果十分方便。

工作環(huán)境:

1、環(huán)境溫度：-15°C ～45°C

2、環(huán)境相對濕度：<75%

3、儀器四周通風(fēng)良好，空氣中不含腐蝕性氣體。

4、儀器周圍無強(qiáng)電磁場干擾。

5、當(dāng)交流幅值<10mV時(shí)，電解池需要利用Faraday箱進(jìn)行屏蔽。

6、電源電壓：AC220V（50Hz）±10%。

可提供的電化學(xué)方法:

恒電位技術(shù)：單電位階躍計(jì)時(shí)電流法、雙電位階躍計(jì)時(shí)電流法、計(jì)時(shí)電量法、電流—時(shí)間曲線、開路電位--時(shí)間曲線、控制電位電解庫侖法、電位溶出E-T曲線、微分電位溶出分析法。

線性掃描技術(shù)：線性掃描伏安（極譜）法、循環(huán)伏安法及無限次循環(huán)伏安、塔菲爾曲線、采樣電流極譜（伏安）法、線性掃描溶出伏安法。

脈沖技術(shù)：常規(guī)脈沖伏安（極譜）法、差分脈沖伏安（極譜）法、差分常規(guī)脈沖伏安（極譜）法、差分脈沖溶出伏安法。

方波技術(shù)：方波伏安（極譜）法、循環(huán)方波伏安法、方波溶出伏安法。

恒電流技術(shù)：單電流階躍計(jì)時(shí)電位法、雙電流階躍計(jì)時(shí)電位法、線性電流計(jì)時(shí)電位法、控制電流電解庫侖法。

交流阻抗測量技術(shù)：交流-阻抗法、阻抗-電位法、阻抗-時(shí)間法。

電流沖放電測試

北京北信未來電子科技中心

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：王華

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