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螞蟻源科學儀器(北京)有限公司

化工儀器網>產品展廳>實驗室常用設備>粉碎/研磨設備>研磨儀>CMD2000 多功能研磨分散機

CMD2000 多功能研磨分散機

參考價 110000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱 上海依肯機械設備有限公司
  • 品牌
  • 型號 CMD2000
  • 產地 松江區(qū)陳春公路700號
  • 廠商性質 生產廠家
  • 更新時間 2016/12/12 13:40:10
  • 訪問次數 340

聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!


上海依肯機械設備有限公司是一家中德合作經營企業(yè),依肯通過引進德國xian進技術和科學管理模式,形成了完整的研發(fā)、制造及營銷體系。她保持與quan球的混合乳化技術同步,同時擁有yi流的技術研究人才和生產能力,為zhong國及quan球提供多元化的產品及技術服務。她已經發(fā)展成為中國流體高剪切混合設備行業(yè)的者。

       公司主要研發(fā),生產制造,銷售流體領域的幾大系列:一高剪切分散乳化機,二 均質機,三 粉液混合設備,四 膠體磨,五 攪拌機,六干燥機等系列。為混合、分散、均質、懸浮、乳化、濕磨、粉液混合等領域提供高品質的解決方案,設備加工材料細度可達微納米級別。依肯公司作為國nei的供應商,憑借著對廣大客戶要求的深入了解,為客戶解決流程工藝中的難題,混合技術,乳化均質,粉液混合技術和合理的配置方案,確保設備運行穩(wěn)定的可靠性。她已廣泛應用于石油、石化、化工、食品、生物制藥、核工業(yè)、精細化工等領域,并成功為guo家zhong點工程配套,部分產品返銷國外,取得了顯zhu的經濟效益和社會效益。

 

      “追求高品質”是依肯公司是的宗旨。“成功源自創(chuàng)新”亦是公司全體員工一直努力追隨的目標。上海依肯機械設備有限公司將以求實、創(chuàng)新的企業(yè)精神走向市場。在您在關注和支持下、她將以不斷發(fā)展壯大,在混合乳化設備制造的廣闊天地中散發(fā)出*的魅力。

實驗室分散機,高剪切乳化機,勻漿機 實驗室膠體磨,高剪切乳化機,管線式乳化機

多功能研磨分散機,多功能研磨機,多功能分散機,實驗室多功能研磨分散機,工業(yè)化,zui高轉速可以達到14000RPM。此款研磨分散機比普通的分散機機的速度達到4-5倍以上,分散乳化均質研磨效果非常好。

米研磨分散設備  

 

研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎成小顆粒。

分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達到顆粒*被分離(separating)、潤濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩(wěn)定(stabilization)目的。

在做納米粉體分散或研磨時,因為粉體尺度由大變小的過程中,范德華力及布朗運動現象逐漸明顯且重要。選擇適當助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當的研磨機來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關鍵技術。

 

研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 

研磨分散機應用領域:

化學工業(yè):油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,炭黑等。
日用化工:牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等。
醫(yī)藥工業(yè):各型糖漿、營養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮等。
建筑工業(yè):各種涂料。包括內外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
其它工業(yè):塑料工業(yè)、紡織工業(yè)、造紙工業(yè)、煤炭浮選劑、納米材料等行業(yè)優(yōu)質環(huán)保的生產需要 。

膠體磨磨頭CM2000膠體磨
 

設備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯結形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器

膠體磨

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

1000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

3000

4,200

23

22

DN80/DN65

CMD 2000/20

8000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

2000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

6000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節(jié)到zui大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產品的要求。

3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數,以便選型和定制。

4 本表的數據因技術改動,定制而不符,正確的參數以提供的實物為準。

5 本系列機型具有短程送料能力,無自吸功能,須選用高位進料;物料粘度或固含量高導致不能正常進料和輸送時,須選用壓力或輸送泵進料或送料,輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。

 



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