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C-25型單面光刻機(jī) 高精度

2024-11-05

產(chǎn)      地:
暫無(wú)
所在地區(qū):
北京北京市
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C-25型單面光刻機(jī) 高精度

C-25型單面光刻機(jī) 高精度




主要用途


主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。


由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)優(yōu)良,找平力小、使本機(jī)不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光,而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。


主要構(gòu)成


主要由高精度對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)、雙目分離視場(chǎng)CCD顯微顯示系統(tǒng)、采用高均勻性的多點(diǎn)光源、 蠅眼、LED、曝光頭,PLC電控系統(tǒng)、氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式無(wú)油真空泵、二級(jí)防震工作臺(tái)和附件箱等組成。


主要性能指標(biāo)


1有三種版夾盤,能真空吸附5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"方形掩板。對(duì)版的厚度無(wú)特殊要求(1~4mm皆可)。如果不同于上述尺寸的版,真空無(wú)法吸附,但可采用夾盤上的螺孔,和特殊的壓片固定版。


2設(shè)有相對(duì)應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺(tái)”三個(gè),分別適用于φ4,φ3,φ2片。對(duì)于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片,只要堵塞相應(yīng)的小孔,同樣能真空吸附。


3照明


光源:采用GCQ350Z型超高壓水銀直流汞燈。


照明范圍:≤110mm


不均勻性:ф100mm內(nèi)±3%


可使用的波長(zhǎng):g線、h線、I線的組合。


成象面照明:光照度2~20毫瓦/厘米2,任意可調(diào)(出廠時(shí),照明度調(diào)在4mw/cm2)。


4采用進(jìn)口時(shí)間繼電器(該繼電器可從0.1秒~999.9秒預(yù)設(shè))控制真空快門,動(dòng)作準(zhǔn)確可靠。


5該機(jī)為接觸式光刻機(jī),但可實(shí)現(xiàn):


a. 硬接觸曝光:用管道真空來(lái)獲得高真空接觸,真空≤-0.05MPα。


b. 軟接觸曝光:接觸壓力可將真空降到-0.02MPα~-0.05MPα之間。


c. 微力接觸曝光:小于軟接觸,真空≥-0.02MPα。


6分辯率估計(jì)


如果用戶的“版”、“片”精度符合國(guó)家規(guī)定,環(huán)境、溫度、濕度、塵埃得到嚴(yán)格控制,采用正性光刻膠,且勻膠厚度得到嚴(yán)格控制。加之前后工藝優(yōu)良的話,硬接觸曝光的最小分辨度可達(dá)1μm以上。如果作為批量生產(chǎn),建議使用在1.5μm以上。


7對(duì)準(zhǔn)


對(duì)準(zhǔn)顯微鏡:


  1、由兩支變焦顯微鏡,兩支CCD攝像頭,一臺(tái)液晶顯示器和X.Z方向調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)組成。


  2、該顯微鏡雙物鏡距離可調(diào)。


  3、該顯微鏡既可通過(guò)顯示屏同時(shí)看見(jiàn)兩物鏡的象,也可轉(zhuǎn)換成只看左物鏡或右物鏡的象。


  4、總放大倍數(shù):0.7×42~4.5×42=30X~189X。


C-25型單面光刻機(jī) 高精度



對(duì)準(zhǔn)臺(tái):(采用片動(dòng),版不動(dòng)方式)


X、Y調(diào)整:硅片X、Y的對(duì)準(zhǔn)采用切斯曼機(jī)構(gòu)或微分頭調(diào)節(jié)。


粗調(diào)≥±3mm


細(xì)調(diào)≤±0.3mm。


Q調(diào)整:轉(zhuǎn)角≤3°(另設(shè)粗調(diào)機(jī)構(gòu),可進(jìn)行±15°粗調(diào))


對(duì)準(zhǔn)間隙(分離間隙)0∽50μm任意可調(diào)。


整個(gè)對(duì)準(zhǔn)臺(tái)相對(duì)于顯微鏡可作±15mm掃描運(yùn)動(dòng)。


“接觸、分離”20μm情況下,片相對(duì)于版的“漂移量”,可調(diào)到≤0.5μm。


8設(shè)備所需能源


主機(jī)電源: 220V±10%   50HZ


潔凈空氣≥0.4mpα


真空:-0.07~-0.08MPα。


9尺寸和重量


尺寸:機(jī)體900(長(zhǎng))×674(寬)×882(高)。


重量:150Kg。


機(jī)體放在專用工作臺(tái)上。


工作臺(tái)630(長(zhǎng))×654(寬)×645(高)。


高度可調(diào)范圍0~30mm。


重量180Kg(工作臺(tái)后側(cè)裝有電氣部分)。


總重量≤330Kg


10光刻機(jī)的組成


l 主機(jī)


主機(jī)(含機(jī)體和工作臺(tái))


對(duì)準(zhǔn)采用CCD雙視場(chǎng)系統(tǒng)


蠅眼光源曝光頭


l 附件


主機(jī)附件


3"□型掩版夾盤


4"□型掩版夾盤(出廠時(shí)安裝到機(jī)器上)


5"□型掩版夾盤。


用于φ2"基片的真空夾持承片臺(tái)。


用于φ3"基片的真空夾持承片臺(tái)(出廠時(shí)安裝到機(jī)器上)。


用于φ4"基片的真空夾持承片臺(tái)。



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