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無掩膜/激光直寫光刻機(jī)

2024-10-22

產(chǎn)      地:
暫無
所在地區(qū):
廣東深圳市
有效期還剩 54舉報(bào)該信息

v 光源375 nm385 nm、405 nm 激光器

v 線寬:0.5μm、0.6μm、1.0μm、1.5μm

v 光刻效率:3000mm2/min@5μm

v XY行程:55~205mm

v 樣品尺寸:最小3mm*3mm   8 inch

v 應(yīng)用領(lǐng)域:生物芯片、功率芯片光刻、掩膜版制造、3D衍射光學(xué)元件、芯片封裝、光通訊芯片光刻


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